| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 背景和意义 | 第9页 |
| 1.2 磁控溅射技术 | 第9-11页 |
| 1.2.1 传统磁控溅射技术 | 第10-11页 |
| 1.2.2 高功率磁控溅射技术 | 第11页 |
| 1.3 高功率磁控溅射研究现状 | 第11-15页 |
| 1.3.1 高功率磁控溅射仿真研究 | 第12-13页 |
| 1.3.2 高功率磁控溅射电参数研究 | 第13-15页 |
| 1.4 高功率磁控溅射的局限性 | 第15-16页 |
| 1.5 本文研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 实验方法与模型 | 第18-23页 |
| 2.1 PIC算法及模型 | 第18-20页 |
| 2.2 实验用真空室 | 第20-21页 |
| 2.3 电源设计及开发工具 | 第21-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 第3章 复合脉冲磁控溅射数值仿真研究 | 第23-39页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 高功率磁控溅射放电过程研究 | 第23-27页 |
| 3.3 单脉冲电压对磁控溅射放电的影响 | 第27-32页 |
| 3.4 复合脉冲电压对磁控溅射放电的影响 | 第32-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 复合脉冲磁控溅射电源研制 | 第39-52页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 复合脉冲磁控电源研制 | 第39-44页 |
| 4.2.1 主电路结构 | 第39-40页 |
| 4.2.2 控制系统研制 | 第40-43页 |
| 4.2.3 人机交互界面设计 | 第43-44页 |
| 4.3 电源水负载测试 | 第44-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 复合脉冲电源Cr靶放电特性研究 | 第52-62页 |
| 5.1 引言 | 第52页 |
| 5.2 单脉冲电源参数对Cr靶放电的影响 | 第52-56页 |
| 5.2.1 单脉冲电压对Cr靶放电特性的影响 | 第52-54页 |
| 5.2.2 单脉冲脉宽对Cr靶放电特性的影响 | 第54-55页 |
| 5.2.3 单脉冲频率对Cr靶放电特性的影响 | 第55-56页 |
| 5.3 复合脉冲电源参数对Cr靶放电的影响 | 第56-61页 |
| 5.3.1 引燃脉冲参数对Cr靶放电特性的影响 | 第56-58页 |
| 5.3.2 工作脉冲参数对Cr靶放电特性的影响 | 第58-60页 |
| 5.3.3 高低脉冲相位关系对Cr靶放电特性的影响 | 第60-61页 |
| 5.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70页 |