摘要 | 第5-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第一章 文献综述 | 第14-39页 |
1.1 研究背景 | 第14-21页 |
1.1.1 概述 | 第14-15页 |
1.1.2 消毒副产物前体物简介 | 第15-19页 |
1.1.3 消毒副产物简介 | 第19-21页 |
1.2 碘代消毒副产物的研究进展 | 第21-29页 |
1.2.1 碘代消毒副产物的形成与危害 | 第21-23页 |
1.2.2 碘代消毒副产物的形成机理 | 第23-27页 |
1.2.3 影响碘代消毒副产物形成的因素 | 第27-29页 |
1.3 消毒副产物的控制与预测 | 第29-37页 |
1.3.1 消毒副产物前体物的去除 | 第30-35页 |
1.3.2 消毒副产物的预测 | 第35-37页 |
1.4 本文的研究内容、目的和意义 | 第37-39页 |
1.4.1 研究的目的和意义 | 第37页 |
1.4.2 主要研究内容 | 第37-39页 |
第二章 氯气和氯氨消毒中NOM结构对I-THMs形成的影响 | 第39-61页 |
2.1 引言 | 第39-40页 |
2.2 实验试剂与方法 | 第40-45页 |
2.2.1 试剂与仪器 | 第40-41页 |
2.2.2 溶液制备 | 第41-42页 |
2.2.3 检测方法 | 第42-43页 |
2.2.4 插入因子和利用率因子计算 | 第43-44页 |
2.2.5 实验设计与过程 | 第44-45页 |
2.3 结果与讨论 | 第45-58页 |
2.3.1 不同分子量NOM组分的结构表征 | 第45-46页 |
2.3.2 I~-浓度对I-THMs形成的影响 | 第46-52页 |
2.3.3 NOM浓度对I-THMs形成的影响 | 第52-54页 |
2.3.4 Br~-浓度对I-THMs形成的影响 | 第54-55页 |
2.3.5 pH对I-THMs形成的影响 | 第55-57页 |
2.3.6 预Cl_2化时间对后继NH_2Cl过程中I-THMs形成的影响 | 第57-58页 |
2.4 本章小结 | 第58-61页 |
第三章 UV/H_2O_2预氧化对消毒中I-THMs形成的作用机理 | 第61-81页 |
3.1 引言 | 第61-62页 |
3.2 实验试剂与方法 | 第62-66页 |
3.2.1 试剂与仪器 | 第62-64页 |
3.2.2 紫外光反应系统 | 第64页 |
3.2.3 分析方法 | 第64-65页 |
3.2.4 实验设计与过程 | 第65-66页 |
3.3 结果与讨论 | 第66-80页 |
3.3.1 UV/H_2O_2预氧化后NOM结构的变化 | 第66-71页 |
3.3.2 UV/H_2O_2预氧化处理后I~-和Br~-的变化 | 第71-72页 |
3.3.3 UV/H_2O_2预氧化后消毒对I-THMs形成的影响 | 第72-77页 |
3.3.4 UV辐照剂量和H_2O_2浓度对I-THMs形成的影响 | 第77-80页 |
3.4 本章小结 | 第80-81页 |
第四章 UV/Cl_2或UV/NH_2Cl联合消毒中I-THMs的形成机制 | 第81-103页 |
4.1 引言 | 第81-82页 |
4.2 实验试剂与方法 | 第82-85页 |
4.2.1 试剂与样品制备 | 第82-83页 |
4.2.2 量子产额计算 | 第83-84页 |
4.2.3 同步荧光二维相关分析 | 第84-85页 |
4.2.4 分析方法 | 第85页 |
4.3 结果与讨论 | 第85-101页 |
4.3.1 UV/Cl_2和UV/NH_2Cl对NOM结构的影响 | 第85-93页 |
4.3.2 UV/Cl_2和UV/NH_2Cl消毒中I-THMs的形成 | 第93-101页 |
4.4 本章小结 | 第101-103页 |
第五章 Cl_2消毒工艺中I-THMs形成的数学模型研究 | 第103-128页 |
5.1 引言 | 第103-104页 |
5.2 实验试剂与方法 | 第104-106页 |
5.2.1 试剂与样品制备 | 第104-105页 |
5.2.2 分析方法 | 第105-106页 |
5.3 结果与讨论 | 第106-127页 |
5.3.1 I-THMs的影响因素 | 第106-114页 |
5.3.2 模型建立 | 第114-123页 |
5.3.3 模型验证 | 第123-124页 |
5.3.4 模型预测 | 第124-127页 |
5.4 本章小结 | 第127-128页 |
第六章 结论 | 第128-132页 |
参考文献 | 第132-152页 |
攻读学位期间发表的研究成果 | 第152-154页 |
致谢 | 第154-155页 |