中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-25页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 石墨烯的结构 | 第10-11页 |
1.3 石墨烯的特性 | 第11-14页 |
1.3.1 石墨烯的机械特性 | 第11页 |
1.3.2 石墨烯的电学特性 | 第11-12页 |
1.3.3 石墨烯的光学特性 | 第12-13页 |
1.3.4 石墨烯的热学特性 | 第13-14页 |
1.4 石墨烯的制备 | 第14-17页 |
1.4.1 机械剥离法 | 第14页 |
1.4.2 化学气相沉积法 | 第14-15页 |
1.4.3 外延晶体生长法 | 第15页 |
1.4.4 溶剂热法 | 第15-16页 |
1.4.5 电化学法 | 第16页 |
1.4.6 化学氧化还原法 | 第16-17页 |
1.5 石墨烯的表征 | 第17-19页 |
1.5.1 光学显微镜 | 第17页 |
1.5.2 原子力显微镜 | 第17页 |
1.5.3 扫面电子显微镜 | 第17-18页 |
1.5.4 透射电子显微镜 | 第18页 |
1.5.5 拉曼光谱 | 第18-19页 |
1.5.6 红外光谱 | 第19页 |
1.5.7 紫外-可见光光谱 | 第19页 |
1.6 石墨烯的应用 | 第19-21页 |
1.6.1 能源储存 | 第19-20页 |
1.6.2 场效应晶体管 | 第20页 |
1.6.3 复合材料 | 第20页 |
1.6.4 传感器 | 第20-21页 |
1.7 石墨烯气敏传感器的研究进展 | 第21-23页 |
1.8 本论文的主要研究内容及其意义 | 第23-25页 |
第二章 多孔还原氧化石墨烯的制备及其气敏传感器的研究 | 第25-44页 |
2.1 引言 | 第25页 |
2.2 实验使用仪器与试剂 | 第25-26页 |
2.3 实验部分 | 第26-32页 |
2.3.1 氧化石墨烯的制备与表征 | 第26-29页 |
2.3.2 多孔氧化石墨烯的制备 | 第29页 |
2.3.3 多孔还原氧化石墨烯的制备 | 第29-30页 |
2.3.4 多孔还原氧化石墨烯气敏传感器的制备 | 第30-31页 |
2.3.5 气敏传感器测试系统 | 第31-32页 |
2.4 结果与讨论 | 第32-43页 |
2.4.1 多孔GO的AFM表征 | 第32-34页 |
2.4.2 多孔GO与多孔rGO的XPS表征 | 第34页 |
2.4.3 多孔GO与多孔rGO的红外光谱表征 | 第34-36页 |
2.4.4 多孔GO与多孔rGO的拉曼光谱表征 | 第36页 |
2.4.5 多孔GO与多孔rGO的XRD表征 | 第36-37页 |
2.4.6 多孔GO与多孔rGO的UV-vis表征 | 第37-38页 |
2.4.7 多孔rGO气敏传感器的响应检测 | 第38-42页 |
2.4.8 气敏响应机理的分析 | 第42-43页 |
2.5 本章小结 | 第43-44页 |
第三章 还原氧化石墨烯泡沫的制备及其气敏传感器的研究 | 第44-55页 |
3.1 引言 | 第44页 |
3.2 实验使用仪器与试剂 | 第44-45页 |
3.3 实验部分 | 第45-47页 |
3.3.1 还原氧化石墨烯泡沫的制备 | 第45-46页 |
3.3.2 还原氧化石墨烯泡沫气敏传感器的制备 | 第46-47页 |
3.4 结果与讨论 | 第47-53页 |
3.4.1 GO与rGO/泡沫的红外光谱表征 | 第47页 |
3.4.2 GO与rGO/泡沫的拉曼光谱表征 | 第47-48页 |
3.4.3 rGO/泡沫的SEM形貌表征 | 第48-49页 |
3.4.4 rGO/泡沫气敏传感器的响应检测 | 第49-53页 |
3.4.5 气敏响应机理的分析 | 第53页 |
3.5 本章小结 | 第53-55页 |
第四章 结论 | 第55-58页 |
4.1 论文主要结论 | 第55-56页 |
4.1.1 采用改进后Hummers方法制备GO | 第55页 |
4.1.2 基于多孔rGO的气敏传感器 | 第55页 |
4.1.3 基于rGO/泡沫的气敏传感器 | 第55-56页 |
4.2 本论文的创新点 | 第56页 |
4.3 工作展望 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-66页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及专利 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |