摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-17页 |
1.1 研究背景及目的 | 第11页 |
1.2 微弧氧化技术简介 | 第11-16页 |
1.2.1 微弧氧化技术发展概况 | 第11-12页 |
1.2.2 微弧氧化的电解液类型 | 第12-14页 |
1.2.3 添加剂 | 第14页 |
1.2.4 微弧氧化的影响因素 | 第14-16页 |
1.2.5 微弧氧化膜层的特点及应用 | 第16页 |
1.3 论文的研究内容 | 第16-17页 |
第二章 实验材料及研究方法 | 第17-25页 |
2.1 微弧氧化膜层制备及结构表征 | 第17-19页 |
2.1.1 试样的制备 | 第17-18页 |
2.1.2 SEM分析 | 第18-19页 |
2.1.3 EDS分析 | 第19页 |
2.1.4 X射线衍射分析 | 第19页 |
2.1.5 微弧氧化膜厚度测量 | 第19页 |
2.2 力学性能实验 | 第19-20页 |
2.2.1 显微硬度测试 | 第19页 |
2.2.2 摩擦磨损实验 | 第19-20页 |
2.3 腐蚀实验 | 第20-25页 |
2.3.1. 配制SBF溶液所需仪器和试剂 | 第20-22页 |
2.3.2 析氢测量 | 第22页 |
2.3.3 电化学实验 | 第22-25页 |
第三章 微弧氧化膜层的结构及组成分析 | 第25-51页 |
3.1 电压对微弧氧化膜层组织形貌的影响 | 第25-31页 |
3.1.1 电压对微弧氧化膜层表面形貌和元素含量的影响 | 第25-27页 |
3.1.2 电压对截面形貌及膜层厚度的影响 | 第27-29页 |
3.1.3 电压400V时膜层截面元素分布 | 第29-30页 |
3.1.4 电压对膜层相组成的影响 | 第30-31页 |
3.2 频率对微弧氧化膜层组织形貌的影响 | 第31-36页 |
3.2.1 频率对微弧氧化膜层表面形貌和元素含量的影响 | 第31-33页 |
3.2.2 频率对截面形貌及膜层厚度的影响 | 第33-34页 |
3.2.3 频率为900Hz下制备的膜层截面元素分布 | 第34-35页 |
3.2.4 频率对膜层表面相的影响 | 第35-36页 |
3.3 甘油磷酸钙浓度对微弧氧化膜层组织形貌的影响 | 第36-40页 |
3.3.1 甘油磷酸钙浓度对微弧氧化膜层表面形貌和元素含量的影响 | 第36-38页 |
3.3.2 甘油磷酸钙浓度对截面形貌及膜层厚度的影响 | 第38-40页 |
3.3.3 甘油磷酸钙浓度对膜层表面相的影响 | 第40页 |
3.4 时间对微弧氧化膜层组织形貌的影响 | 第40-44页 |
3.4.1 时间对微弧氧化膜层表面形貌和元素含量的影响 | 第40-42页 |
3.4.2 时间对截面形貌及膜层厚度的影响 | 第42-44页 |
3.4.3 时间对膜层表面相的影响 | 第44页 |
3.5 占空比对微弧氧化膜层组织形貌的影响 | 第44-48页 |
3.5.1 占空比对微弧氧化膜层表面形貌和元素含量的影响 | 第44-46页 |
3.5.2 占空比对截面形貌及膜层厚度的影响 | 第46-48页 |
3.5.3 占空比对膜层表面相的影响 | 第48页 |
3.6 本章小结 | 第48-51页 |
第四章 微弧氧化膜层的性能研究 | 第51-77页 |
4.1 电压对膜层性能的影响 | 第51-57页 |
4.1.1 电压对微弧氧化膜层浸泡腐蚀性能的影响 | 第51-52页 |
4.1.2 电压对微弧氧化膜层电化学腐蚀性能的影响 | 第52-54页 |
4.1.3 电压对微弧氧化膜层显微硬度的影响 | 第54-55页 |
4.1.4 电压对微弧氧化膜层摩擦性能的影响 | 第55-57页 |
4.2 频率对膜层性能的影响 | 第57-61页 |
4.2.1 频率对微弧氧化膜层降解性能的影响 | 第57-58页 |
4.2.2 频率对微弧氧化膜层电化学腐蚀性能的影响 | 第58-60页 |
4.2.3 频率对微弧氧化膜层显微硬度的影响 | 第60页 |
4.2.4 频率对微弧氧化膜层摩擦性能的影响 | 第60-61页 |
4.3 甘油磷酸钙浓度对膜层性能的影响 | 第61-66页 |
4.3.1 甘油磷酸钙浓度对微弧氧化膜层降解性能的影响 | 第61-62页 |
4.3.2 甘油磷酸钙浓度对微弧氧化膜层电化学腐蚀性能的影响 | 第62-64页 |
4.3.3 甘油磷酸钙浓度对微弧氧化膜层显微硬度的影响 | 第64-65页 |
4.3.4 甘油磷酸钙浓度对微弧氧化膜层摩擦性能的影响 | 第65-66页 |
4.4 时间对膜层性能的影响 | 第66-70页 |
4.4.1 时间对微弧氧化膜层降解性能的影响 | 第66-67页 |
4.4.2 时间对微弧氧化膜层电化学腐蚀性能的影响 | 第67-69页 |
4.4.3 时间对微弧氧化膜层显微硬度的影响 | 第69页 |
4.4.4 时间对微弧氧化膜层摩擦性能的影响 | 第69-70页 |
4.5 占空比对膜层性能的影响 | 第70-74页 |
4.5.1 占空比对微弧氧化膜层降解性能的影响 | 第70-71页 |
4.5.2 占空比对微弧氧化膜层电化学腐蚀性能的影响 | 第71-73页 |
4.5.3 占空比对微弧氧化膜层显微硬度的影响 | 第73页 |
4.5.4 占空比对微弧氧化膜层摩擦性能的影响 | 第73-74页 |
4.6 本章小结 | 第74-77页 |
第五章 微弧氧化膜层形成机制及腐蚀机制分析 | 第77-83页 |
5.1 微弧氧化膜层形成机制分析 | 第77-78页 |
5.2 微弧氧化膜层腐蚀机制分析 | 第78-81页 |
5.2.1 膜层腐蚀后微观形貌 | 第78-79页 |
5.2.2 腐蚀后膜层表面相分析 | 第79-80页 |
5.2.3 腐蚀机制分析 | 第80-81页 |
5.3 本章小结 | 第81-83页 |
结论 | 第83-85页 |
参考文献 | 第85-91页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第91-93页 |
致谢 | 第93页 |