| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 MoS_2的基本性质 | 第13-14页 |
| 1.3 MoS_2的制备方法 | 第14-19页 |
| 1.3.1 微机械力剥离法 | 第14-15页 |
| 1.3.2 锂离子插层法 | 第15-16页 |
| 1.3.3 化学气相沉积法 | 第16-17页 |
| 1.3.4 水热法和溶剂热法 | 第17-18页 |
| 1.3.5 高温硫化法 | 第18-19页 |
| 1.4 MoS_2薄膜的主要应用及进展 | 第19-24页 |
| 1.4.1 场效应晶体管 | 第19-20页 |
| 1.4.2 光电传感器 | 第20-21页 |
| 1.4.3 电解水制氢催化剂 | 第21-22页 |
| 1.4.4 锂离子电池应用 | 第22-24页 |
| 第二章 PAD方法制备纳米MoS_2的基本原理和样品表征方式 | 第24-35页 |
| 2.1 聚合物辅助沉积法的基本原理及设备 | 第24-27页 |
| 2.1.1 聚合物辅助沉积方法简介 | 第24-26页 |
| 2.1.2 聚合物辅助沉积方法的基本仪器 | 第26-27页 |
| 2.2 MoS_2薄膜和纳米片的表征方法 | 第27-35页 |
| 2.2.1 场发射扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| 2.2.2 透射电子显微镜 | 第28-29页 |
| 2.2.3 X射线衍射 | 第29页 |
| 2.2.4 原子力显微镜 | 第29-30页 |
| 2.2.5 X射线光电子能谱 | 第30-31页 |
| 2.2.6 紫外-可见(UV-Vis)分光光度计 | 第31-32页 |
| 2.2.7 拉曼光谱仪 | 第32页 |
| 2.2.8 荧光光谱仪 | 第32-33页 |
| 2.2.9 BET比表面积测试 | 第33-35页 |
| 第三章 MoS_2薄膜和纳米薄片的制备及其性质分析 | 第35-50页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 实验材料 | 第35-36页 |
| 3.3 厚度可控MoS_2薄膜的制备 | 第36-37页 |
| 3.3.1 前驱体溶液的配制 | 第36页 |
| 3.3.2 旋涂法成膜 | 第36页 |
| 3.3.3 管式炉高温退火处理 | 第36-37页 |
| 3.3.4 薄膜厚度的控制 | 第37页 |
| 3.4 超薄MoS_2纳米片的制备 | 第37-38页 |
| 3.5 厚度可控MoS_2薄膜的性质分析 | 第38-43页 |
| 3.5.1 MoS_2薄膜的结构表征 | 第38-39页 |
| 3.5.2 MoS_2薄膜的表面形貌 | 第39-40页 |
| 3.5.3 MoS_2薄膜的光学特性 | 第40-43页 |
| 3.5.4 MoS_2薄膜的价态分析 | 第43页 |
| 3.6 不同尺寸和厚度MoS_2纳米薄片的性质分析 | 第43-48页 |
| 3.6.1 不同退火温度得到的纳米片的形貌表征 | 第43-46页 |
| 3.6.2 对不同退火温度得到样品的BET数据测试 | 第46-47页 |
| 3.6.3 对T850样品的其他表征 | 第47-48页 |
| 3.7 本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 MoS_2薄膜应用于光电感应器件的研究 | 第50-55页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 光响应器件的制作过程 | 第50-51页 |
| 4.3 光响应器件的测试 | 第51-54页 |
| 4.3.1 开关比测试 | 第51-53页 |
| 4.3.2 稳定性测试 | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 超薄MoS_2纳米片在电催化析氢方面的研究 | 第55-59页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 电解水析氢催化性能的测试 | 第55-58页 |
| 5.2.1 工作电极的制备过程 | 第56页 |
| 5.2.2 线性扫描伏安法曲线（LSV） | 第56-57页 |
| 5.2.3 塔菲尔曲线（Tafel） | 第57页 |
| 5.2.4 稳定性测试 | 第57-58页 |
| 5.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 总结和展望 | 第59-62页 |
| 6.1 全文总结 | 第59-61页 |
| 6.2 存在的问题和展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-72页 |
| 攻读硕士学位期间的学术成果 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
