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石墨烯基纳米材料修饰电极的构筑及其在药物电分析化学中的应用

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第12-35页
    1.1 石墨烯的制备第12-18页
        1.1.1 机械剥离法第13页
        1.1.2 化学气相沉积法第13-14页
        1.1.3 外延生长法第14-15页
        1.1.4 氧化还原法第15-16页
        1.1.5 溶剂剥离法第16页
        1.1.6 电化学法第16-17页
        1.1.7 爆炸法第17页
        1.1.8 石墨烯其它制备方法第17-18页
    1.2 石墨烯的功能化第18-20页
        1.2.1 共价法功能化第18-19页
        1.2.2 非共价法功能化第19-20页
        1.2.3 石墨烯的掺杂功能化第20页
    1.3 基于石墨烯纳米材料的电化学应用第20-27页
        1.3.1 场效应晶体管第21页
        1.3.2 储能材料第21-23页
            1.3.2.1 超级电容器第21-22页
            1.3.2.2 锂离子电池第22页
            1.3.2.3 太阳能电池第22-23页
        1.3.3 电化学传感器第23-27页
            1.3.3.1 气体传感器第23-24页
            1.3.3.2 生物传感器第24-26页
            1.3.3.3 药物传感器第26-27页
    1.4 本课题的主要研究内容及意义第27-28页
    参考文献第28-35页
第二章 新型石墨烯修饰电极对盐酸异丙嗪的电化学行为的研究第35-45页
    2.1 前言第35页
    2.2 实验部分第35-36页
        2.2.1 仪器和试剂第35页
        2.2.2 石墨烯的氧化第35-36页
        2.2.3 石墨烯修饰玻碳电极的制备第36页
    2.3 结果和讨论第36-42页
        2.3.1 氧化石墨烯样品的表征第36-37页
        2.3.2 异丙嗪在氧化石墨烯修饰电极上的电化学行为第37页
        2.3.3 缓冲介质的选择第37-38页
        2.3.4 修饰量的影响第38-39页
        2.3.5 富集条件的选择第39页
        2.3.6 扫描速度的影响第39-40页
        2.3.7 线性关系、检出限及电极重现性第40-41页
        2.3.8 干扰实验第41页
        2.3.9 样品的测定第41-42页
    2.4 文章小结第42-43页
    参考文献第43-45页
第三章 氧化石墨烯修饰电极伏安法测定药物中的氧氟沙星第45-54页
    3.1 前言第45页
    3.2 实验部分第45-46页
        3.2.1 仪器和试剂第45-46页
        3.2.2 石墨烯的氧化第46页
        3.2.3 石墨烯修饰玻碳电极的制备第46页
        3.2.4 实验方法第46页
    3.3 结果与讨论第46-51页
        3.3.1 氧化石墨烯样品的表征第46-47页
        3.3.2 氧氟沙星在修饰电极上的电化学行为第47-48页
        3.3.3 底液及pH值的影响第48页
        3.3.4 修饰量的影响第48-49页
        3.3.5 富集条件的影响第49页
        3.3.6 扫描速度的影响第49-50页
        3.3.7 线性关系、检出限及电极重现性第50页
        3.3.8 干扰试验第50-51页
        3.3.9 样品分析第51页
    3.4 文章小结第51-52页
    参考文献第52-54页
第四章 头孢噻肟钠在氧化石墨烯/Nafion修饰电极上的电化学行为研究第54-64页
    4.1 前言第54页
    4.2 实验部分第54-55页
        4.2.1 实验药品及仪器第54-55页
        4.2.2 氧化石墨烯/Nafion/GCE的制备第55页
        4.2.3 实验方法第55页
    4.3 结果和讨论第55-61页
        4.3.1 样品表征第55-56页
        4.3.2 CFX在氧化石墨烯/Nafion/GCE上的电化学行为第56-57页
        4.3.3 修饰量的影响第57页
        4.3.4 pH的影响第57-58页
        4.3.5 富集条件的影响第58页
        4.3.6 扫速的影响第58-59页
        4.3.7 线性关系,检出限和稳定性第59-60页
        4.3.8 干扰测定第60页
        4.3.9 样品测定第60-61页
    4.4 文章小结第61-62页
    参考文献第62-64页
第五章 纳米Cu2O材料的合成及其修饰电极安培法测定多巴胺第64-73页
    5.1 前言第64页
    5.2 实验部分第64-65页
        5.2.1 仪器和试剂第64-65页
        5.2.2 Cu2O纳米材料的制备第65页
        5.2.3 修饰电极的制备第65页
    5.3 结果与讨论第65-71页
        5.3.1 Cu2O纳米材料的表征第65-66页
        5.3.2 多巴胺在修饰电极上的电化学行为第66页
        5.3.3 pH的影响第66-67页
        5.3.4 修饰剂用量的影响第67-68页
        5.3.5 扫速的影响第68页
        5.3.6 AA对DA测定的影响第68-69页
        5.3.7 线性关系、检出限及稳定性第69-70页
        5.3.8 样品测定第70-71页
    5.4 文章小结第71-72页
    参考文献第72-73页
第六章 维生素B6在石墨烯/纳米Cu2O复合修饰电极上的电化学氧化第73-83页
    6.1 前言第73页
    6.2 实验部分第73-74页
        6.2.1 仪器和试剂第73-74页
        6.2.2 Cu2O纳米材料的制备和石墨烯的纯化第74页
        6.2.3 修饰玻碳电极的制备第74页
    6.3 结果与讨论第74-80页
        6.3.1 Cu2O和氧化石墨烯的表征第74-75页
        6.3.2 VB6在Cu2O和氧化石墨烯上的电化学行为第75-76页
        6.3.3 pH值的影响第76页
        6.3.4 修饰量的影响第76-77页
        6.3.5 富集条件的影响第77-78页
        6.3.6 扫速的影响第78页
        6.3.7 线性关系、检出限及电极重现性第78-79页
        6.3.8 干扰试验第79页
        6.3.9 样品测定第79-80页
    6.4 文章小结第80-81页
    参考文献第81-83页
第七章 氧氟沙星在Cu2O/氮掺杂石墨烯/Nafion复合物修饰电极上的电化学行为研究第83-94页
    7.1 前言第83-84页
    7.2 实验部分第84-85页
        7.2.1 仪器和试剂第84页
        7.2.2 Cu2O/N-G复合纳米材料的制备第84页
        7.2.3 修饰玻碳电极的制备第84-85页
    7.3 结果与讨论第85-90页
        7.3.1 Cu2O/N-G纳米复合材料的表征第85-86页
        7.3.2 氧氟沙星在修饰电极上的电化学行为第86页
        7.3.3 pH值的影响第86-87页
        7.3.4 修饰量的影响第87-88页
        7.3.5 扫速的影响第88页
        7.3.6 线性关系、检出限及稳定性第88-89页
        7.3.7 干扰试验第89-90页
    7.4 文章小结第90-91页
    参考文献第91-94页
第八章 结论及其创新点第94-96页
    8.1 结论第94-95页
    8.2 本课题的创新点第95页
    8.3 展望第95-96页
在学研究成果第96-97页
致谢第97页

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