| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 化学机械抛光概述 | 第9-12页 |
| 1.1.1 化学机械抛光发展历程 | 第9-10页 |
| 1.1.2 化学机械抛光原理 | 第10-12页 |
| 1.1.3 化学机械抛光发展趋势 | 第12页 |
| 1.2 化学机械抛光影响因素分析 | 第12-17页 |
| 1.2.1 抛光液中各组分的影响 | 第12-15页 |
| 1.2.1.1 p H值的影响 | 第12-13页 |
| 1.2.1.2 磨料的影响 | 第13-14页 |
| 1.2.1.3 氧化剂的影响 | 第14页 |
| 1.2.1.4 分散稳定剂的影响 | 第14页 |
| 1.2.1.5 络合剂的影响 | 第14-15页 |
| 1.2.1.6 抑制剂的影响 | 第15页 |
| 1.2.1.7 表面活性剂的影响 | 第15页 |
| 1.2.2 抛光工艺的影响 | 第15-17页 |
| 1.2.2.1 流速的影响 | 第15页 |
| 1.2.2.2 抛光台转速的影响 | 第15-16页 |
| 1.2.2.3 压力和温度的影响 | 第16页 |
| 1.2.2.4 抛光垫的影响 | 第16-17页 |
| 1.3 抛光效果评判方法 | 第17-20页 |
| 1.3.1 抛光中的去除速率 | 第17页 |
| 1.3.2 抛光后工件表面平坦化情况 | 第17-18页 |
| 1.3.3 电化学分析方法 | 第18-20页 |
| 1.3.3.1 极化曲线 | 第19-20页 |
| 1.3.3.2 电化学阻抗谱（EIS） | 第20页 |
| 1.3.3.3 开路电压-时间（OCP-T） | 第20页 |
| 1.3.4 X射线光电子能谱检测（XPS） | 第20页 |
| 1.4 金属锇化学机械抛光 | 第20-22页 |
| 1.4.1 有望成为新一代阻挡层材料的金属——锇（Os） | 第20-21页 |
| 1.4.2 金属锇化学机械抛光现状 | 第21-22页 |
| 1.5 本论文将开展的工作 | 第22-23页 |
| 第二章 缓蚀剂在锇化学机械抛光过程中的作用研究 | 第23-32页 |
| 2.1 前言 | 第23页 |
| 2.2 实验部分 | 第23-24页 |
| 2.2.1 化学机械抛光实验 | 第23-24页 |
| 2.2.3 XPS实验 | 第24页 |
| 2.2.4 表面形貌分析 | 第24页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第24-31页 |
| 2.3.1 氧化剂对金属锇化学机械抛光的影响 | 第24-26页 |
| 2.3.2 缓蚀剂对金属锇化学机械抛光的影响 | 第26-28页 |
| 2.3.3 锇表面的形貌分析 | 第28-29页 |
| 2.3.4 BTA浓度对金属锇化学机械抛光的影响 | 第29-30页 |
| 2.3.5 钝化膜的XPS分析 | 第30-31页 |
| 2.4 结论 | 第31-32页 |
| 第三章 锇在甲酸体系抛光液中化学机械抛光研究 | 第32-41页 |
| 3.1 前言 | 第32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-33页 |
| 3.2.1 化学机械抛光实验 | 第32页 |
| 3.2.2 电化学实验 | 第32-33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-40页 |
| 3.3.1 抛光液成分对金属锇CMP的影响 | 第33-34页 |
| 3.3.2 氧化剂对金属锇化学机械抛光的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.3 BTA对金属锇化学机械抛光的影响 | 第35-40页 |
| 3.4 结论 | 第40-41页 |
| 第四章 乳酸体系抛光液中锇的化学机械抛光 | 第41-50页 |
| 4.1 前言 | 第41页 |
| 4.2 实验部分 | 第41-42页 |
| 4.2.1 化学机械抛光实验 | 第41页 |
| 4.2.2 电化学实验 | 第41-42页 |
| 4.2.3 X射线光电子能谱实验 | 第42页 |
| 4.2.4 表面形貌分析 | 第42页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第42-48页 |
| 4.3.1 不同组分对锇化学机械抛光的影响 | 第42-44页 |
| 4.3.2 BTA含量对锇化学机械抛光的影响 | 第44-46页 |
| 4.3.3 钝化膜的XPS分析 | 第46-48页 |
| 4.3.4 抛光前后锇表面的形貌分析 | 第48页 |
| 4.4 结论 | 第48-50页 |
| 第五章 锇化学机械抛光过程中表面活性剂的作用研究 | 第50-56页 |
| 5.1 前言 | 第50页 |
| 5.2 实验部分 | 第50-51页 |
| 5.2.1 化学机械抛光实验 | 第50页 |
| 5.2.2 电化学实验 | 第50页 |
| 5.2.3 XPS实验 | 第50-51页 |
| 5.2.4 表面形貌分析 | 第51页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第51-55页 |
| 5.3.1 不同表面活性剂对金属锇去除速率影响 | 第51-52页 |
| 5.3.2 抛光液中各组分的电化学分析 | 第52-55页 |
| 5.3.4 AFM测试结果 | 第55页 |
| 5.4 结论 | 第55-56页 |
| 第六章 结论与展望 | 第56-58页 |
| 6.1 结论 | 第56-57页 |
| 6.2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 本文创新之处 | 第64-65页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |