| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 润湿行为的研究进展 | 第11-13页 |
| 1.1.1 润湿性的表征 | 第11-12页 |
| 1.1.2 铺展动力学 | 第12-13页 |
| 1.2 磁控溅射 | 第13-17页 |
| 1.2.1 磁控溅射原理 | 第13-14页 |
| 1.2.2 磁控溅射特征 | 第14-15页 |
| 1.2.3 射频磁控溅射 | 第15-17页 |
| 1.3 润湿行为的研究方法 | 第17-19页 |
| 1.3.1 毛细管法 | 第17-18页 |
| 1.3.2 垂直盘片法 | 第18-19页 |
| 1.3.3 座滴法 | 第19页 |
| 1.4 润湿行为的作用 | 第19-23页 |
| 1.5 本文选题意义及主要内容 | 第23-25页 |
| 第2章 实验方法 | 第25-30页 |
| 2.1 实验用品 | 第25页 |
| 2.2 实验设备 | 第25页 |
| 2.3 实验步骤 | 第25-30页 |
| 2.3.1 石墨片的制备 | 第25-26页 |
| 2.3.2 氧化铝片的制备 | 第26页 |
| 2.3.3 镀膜过程 | 第26-30页 |
| 第3章 熔体铝与沉积Zr镀层的α-Al2O3润湿行为研究 | 第30-44页 |
| 3.1 引言 | 第30-31页 |
| 3.2 实验材料及实验过程 | 第31-32页 |
| 3.3 实验结果 | 第32-35页 |
| 3.3.1 接触角变化与润湿性 | 第32页 |
| 3.3.2 前驱膜现象 | 第32-35页 |
| 3.4 实验结果分析 | 第35-41页 |
| 3.4.1 前驱膜形成与润湿性 | 第35-38页 |
| 3.4.2 界面反应与润湿性 | 第38-41页 |
| 3.5 结果讨论 | 第41-43页 |
| 3.6 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 熔体铝与沉积Zr镀层石墨片的润湿行为研究 | 第44-57页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 实验过程 | 第44-45页 |
| 4.3 实验结果 | 第45-49页 |
| 4.3.1 不同温度的润湿动力学曲线 | 第45-47页 |
| 4.3.2 表面形貌 | 第47-49页 |
| 4.4 实验结果分析 | 第49-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 沉积Ti镀层的石墨片与熔体铝的润湿行为研究 | 第57-68页 |
| 5.1 引言 | 第57页 |
| 5.2 实验过程 | 第57-59页 |
| 5.3 实验结果 | 第59-62页 |
| 5.3.1 润湿铺展过程 | 第59-60页 |
| 5.3.2 润湿机制 | 第60-62页 |
| 5.4 结果分析 | 第62-67页 |
| 5.4.1 反应驱动润湿 | 第62-63页 |
| 5.4.2 前驱膜效应讨论 | 第63-67页 |
| 5.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读硕士期间发表（含录用）的学术论文 | 第73页 |