| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-28页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 金属Mo及镀Mo层的应用 | 第11-12页 |
| 1.3 金属Mo的电沉积研究现状 | 第12-17页 |
| 1.3.1 金属Mo在高温熔盐中的电沉积 | 第12-13页 |
| 1.3.2 金属Mo在低温熔盐中的电沉积 | 第13-15页 |
| 1.3.3 金属Mo的电沉积机理研究现状 | 第15-17页 |
| 1.4 离子液体的简介 | 第17-26页 |
| 1.4.1 离子液体的发展历史 | 第17-18页 |
| 1.4.2 离子液体的性质 | 第18-19页 |
| 1.4.3 离子液体在电化学中的应用 | 第19-20页 |
| 1.4.4 离子液体的分类 | 第20-21页 |
| 1.4.5 离子液体[BMP]Tf_2N简介 | 第21-24页 |
| 1.4.6 离子液体[BMP]Tf_2N电沉积研究现状 | 第24-26页 |
| 1.5 课题的提出及研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 实验方法 | 第28-34页 |
| 2.1 离子液体体系的配置 | 第28-29页 |
| 2.2 电极及其前后处理 | 第29页 |
| 2.3 电化学检测 | 第29-33页 |
| 2.3.1 开路电位 | 第31页 |
| 2.3.2 循环伏安曲线 | 第31-32页 |
| 2.3.3 计时电流曲线 | 第32-33页 |
| 2.4 沉积物的观察及表征方法 | 第33-34页 |
| 2.4.1 SEM&EDS | 第33页 |
| 2.4.2 XPS | 第33页 |
| 2.4.3 TEM | 第33-34页 |
| 第三章 Mo在离子液体[BMP]Tf_2N中的电化学还原行为 | 第34-50页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 [BMP]Tf_2N的循环伏安曲线 | 第34-37页 |
| 3.3 Pt基板上[BMP]Tf_2N-MoCl_5的循环伏安曲线 | 第37-39页 |
| 3.4 Pt基板上的电沉积 | 第39-46页 |
| 3.4.1 沉积物的形貌 | 第39-41页 |
| 3.4.2 沉积物的表征 | 第41-46页 |
| 3.5 本章讨论 | 第46-47页 |
| 3.6 本章小结 | 第47-50页 |
| 第四章 金属Mo在离子液体[BMP]Tf_2N中电沉积的机理 | 第50-60页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 三价Mo体系的循环伏安曲线 | 第50-52页 |
| 4.3 扫描速率对循环伏安曲线的影响 | 第52-56页 |
| 4.4 计时电流曲线 | 第56-59页 |
| 4.5 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 不同基板上Mo在离子液体[BMP]Tf_2N-MoCl_5中的电沉积 | 第60-76页 |
| 5.1 引言 | 第60页 |
| 5.2 Ni基板上的电沉积 | 第60-63页 |
| 5.3 Ag基板上[BMP]Tf_2N-MoCl_5的循环伏安曲线 | 第63-67页 |
| 5.4 Ag基板上的电沉积 | 第67-75页 |
| 5.4.1 打磨Ag基板上的电沉积 | 第67-69页 |
| 5.4.2 Ag基板的活化处理 | 第69-72页 |
| 5.4.3 活化Ag基板上的电沉积 | 第72-75页 |
| 5.5 本章小结 | 第75-76页 |
| 第六章 全文结论及展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 致谢 | 第86-88页 |
| 个人简历 | 第88-90页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文与取得的其他科研成果 | 第90页 |
