氧化钨薄膜的气敏及光催化性质研究
| 术语及符号说明 | 第6-7页 |
| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 三氧化钨的性质 | 第10-15页 |
| 1.1.1 化学性质 | 第10页 |
| 1.1.2 晶体结构 | 第10-11页 |
| 1.1.3 三氧化钨气体传感性质 | 第11-13页 |
| 1.1.4 三氧化钨光催化性质 | 第13-15页 |
| 1.2 三氧化钨的应用 | 第15-18页 |
| 1.2.1 在气体传感领域的应用 | 第15-17页 |
| 1.2.2 在光解水制氢领域的应用 | 第17-18页 |
| 1.2.3 在其他领域的应用 | 第18页 |
| 1.3 三氧化钨的制备方法 | 第18-19页 |
| 1.3.1 水热法 | 第18-19页 |
| 1.3.2 其他方法 | 第19页 |
| 1.4 水合三氧化钨的研究现状 | 第19-22页 |
| 1.4.1 水合三氧化钨的性质 | 第19-20页 |
| 1.4.2 水合三氧化钨的应用 | 第20-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-24页 |
| 2.1 主要实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.2 主要试剂 | 第23页 |
| 2.3 玻璃衬底及反应釜内衬的清洗 | 第23-24页 |
| 第三章 单水合三氧化钨的制备及其气敏性质 | 第24-36页 |
| 3.1 简介 | 第24-26页 |
| 3.2 材料制备及气体传感性质研究 | 第26-27页 |
| 3.2.1 材料制备过程 | 第26页 |
| 3.2.2 测试条件 | 第26-27页 |
| 3.3 材料及性质分析 | 第27-35页 |
| 3.3.1 晶体结构分析 | 第27-30页 |
| 3.3.2 形貌的形成机理 | 第30-32页 |
| 3.3.3 温度对结晶水的影响 | 第32页 |
| 3.3.4 对二氧化氮的响应与恢复 | 第32-35页 |
| 3.4 本章小节 | 第35-36页 |
| 第四章 多孔三氧化钨的制备及其光解水性质 | 第36-46页 |
| 4.1 简介 | 第36-37页 |
| 4.2 制备过程与测试装置 | 第37-38页 |
| 4.3 材料的表征测试 | 第38-41页 |
| 4.4 光电流密度的测试 | 第41-43页 |
| 4.5 光谱吸收曲线和量子效率 | 第43-44页 |
| 4.6 本章小节 | 第44-46页 |
| 第五章 影响三氧化钨光解水性质的因素 | 第46-54页 |
| 5.1 电解质溶液种类对光电流密度的影响 | 第46-47页 |
| 5.2 空气中热处理温度对光电流密度的影响 | 第47-49页 |
| 5.3 热处理时氧分压对光电流密度的影响 | 第49-50页 |
| 5.4 三氧化钨在不同电解质中的稳定性 | 第50-51页 |
| 5.5 晶种法对材料的光电流密度的影响 | 第51-52页 |
| 5.6 酸源的种类对光电流密度的影响 | 第52-53页 |
| 5.7 本章总结 | 第53-54页 |
| 第六章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
| 附录 | 第62页 |
