数字无掩膜光刻技术及其大面积曝光方案研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号对照表 | 第11-12页 |
| 缩略语对照表 | 第12-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-27页 |
| 1.1 课题研究的背景意义 | 第15-17页 |
| 1.2 光刻技术的发展现状 | 第17-23页 |
| 1.2.1 光学投影光刻 | 第17-19页 |
| 1.2.2 电子束光刻 | 第19-20页 |
| 1.2.3 聚焦离子束光刻 | 第20页 |
| 1.2.4 干涉光刻 | 第20-22页 |
| 1.2.5 纳米压印光刻 | 第22-23页 |
| 1.3 数字光刻 | 第23-24页 |
| 1.4 本文主要内容及结构安排 | 第24-27页 |
| 第二章 数字空间光调制器特性研究 | 第27-39页 |
| 2.1 DMD物理结构 | 第27-28页 |
| 2.2 DMD电气特性 | 第28-31页 |
| 2.2.1 双CMOS存储器 | 第28-29页 |
| 2.2.2 DMD阵列数据操作 | 第29-31页 |
| 2.3 DLP技术成像原理及特点分析 | 第31-37页 |
| 2.3.1 投影成像原理 | 第31-32页 |
| 2.3.2 DMD灰度调制实现 | 第32-34页 |
| 2.3.3 DLP成像特点 | 第34-37页 |
| 2.4 本章小结 | 第37-39页 |
| 第三章 数字光刻系统中关键技术分析与解决 | 第39-53页 |
| 3.1 曝光光学系统 | 第39-44页 |
| 3.1.1 光源选择 | 第40-41页 |
| 3.1.2 均光处理 | 第41-43页 |
| 3.1.3 投影物镜 | 第43-44页 |
| 3.2 DMD器件控制及高速数据传输系统设计 | 第44-45页 |
| 3.3 加速曝光图像处理方法 | 第45-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 大面积曝光实现方案设计及仿真 | 第53-73页 |
| 4.1 步进投影法 | 第53-58页 |
| 4.1.1 错误拼接问题分析 | 第53-54页 |
| 4.1.2 基于灰度的光刻图像拼接方法 | 第54-55页 |
| 4.1.3 灰度图形模板设计 | 第55-58页 |
| 4.2 基于黑白图像的扫描投影法 | 第58-66页 |
| 4.2.1 扫描投影法基本过程 | 第58-59页 |
| 4.2.2 扫描投影法原理分析 | 第59-60页 |
| 4.2.3 投影光能量分析 | 第60-63页 |
| 4.2.4 衬底接收光能量控制 | 第63-66页 |
| 4.3 大面积曝光方法实现 | 第66-67页 |
| 4.4 仿真流程设计及拼接测试 | 第67-71页 |
| 4.5 本章小结 | 第71-73页 |
| 第五章 总结与展望 | 第73-75页 |
| 5.1 工作总结 | 第73页 |
| 5.2 未来展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 作者简介 | 第81-82页 |
