| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| ·引言 | 第10-13页 |
| ·磁性材料的分类及应用 | 第10页 |
| ·磁性薄膜材料 | 第10-11页 |
| ·稀土磁性功能薄膜材料 | 第11页 |
| ·自旋阀和磁隧道结系统 | 第11-12页 |
| ·稀土-3d过渡金属多层薄膜 | 第12-13页 |
| ·课题背景 | 第13-16页 |
| ·外斯分子场理论 | 第13-14页 |
| ·海森堡交换作用理论 | 第14页 |
| ·RKKY交换作用理论 | 第14-16页 |
| ·技术背景 | 第16-18页 |
| ·磁性薄膜材料与磁控溅射 | 第16-17页 |
| ·溅射基本原理-辉光放电与溅射过程 | 第17-18页 |
| ·文献综述 | 第18-21页 |
| ·选题意义与课题特色 | 第21-22页 |
| ·课题目标 | 第22-23页 |
| 2 实验方案 | 第23-35页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第23页 |
| ·研究方案 | 第23-24页 |
| ·实验设备及原理 | 第24-27页 |
| ·薄膜的制备 | 第24-25页 |
| ·直流磁控溅射 | 第25-26页 |
| ·薄膜的热处理 | 第26-27页 |
| ·测试仪器及原理 | 第27-35页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第27-29页 |
| ·薄膜结构分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜磁性能分析 | 第30-32页 |
| ·薄膜微观形貌分析 | 第32-35页 |
| 3 单层Gd膜的制备及工艺参数探究 | 第35-43页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第35-36页 |
| ·溅射气压对单层Gd膜生长情况的影响 | 第36-38页 |
| ·生长厚度对单层Gd膜生长情况的影响 | 第38-40页 |
| ·生长方式对单层Gd膜生长情况的影响 | 第40-41页 |
| ·衬底温度对单层Gd膜生长情况的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 4 双层Gd/Fe薄膜的制备及磁性能研究 | 第43-51页 |
| ·不同Gd厚度双层Gd/Fe薄膜的制备及测试 | 第43-45页 |
| ·不同衬底温度对于Gd/Fe双层薄膜晶体结构的影响 | 第45-48页 |
| ·不同衬底温度对于Gd/Fe双层薄膜磁性能的影响 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 5 三层Fe/Gd/Fe薄膜的制备及磁性能研究 | 第51-54页 |
| ·三层膜相结构分析 | 第51页 |
| ·三层膜磁性能分析 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第60-61页 |
| 附录: 符号说明 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |