| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-31页 |
| ·染料污染及危害 | 第12页 |
| ·水体中染料的去除方法 | 第12-14页 |
| ·物理方法去除染料 | 第12页 |
| ·生物方法去除染料 | 第12-13页 |
| ·化学方法去除染料 | 第13-14页 |
| ·光催化技术 | 第14-23页 |
| ·光催化技术国内研究现状 | 第14-17页 |
| ·光催化技术存在的问题 | 第14-15页 |
| ·贵金属沉积 | 第15页 |
| ·金属离子掺杂 | 第15-16页 |
| ·非金属掺杂 | 第16页 |
| ·半导体复合 | 第16-17页 |
| ·表面等离子体光催化 | 第17-23页 |
| ·表面等离子体光催化剂定义 | 第17-19页 |
| ·表面等离子体光催化剂的机理 | 第19-20页 |
| ·表面等离子体光催化剂的研究进展 | 第20-23页 |
| ·研究目的、意义与主要内容 | 第23-25页 |
| ·本论文的研究目的和意义 | 第23页 |
| ·主要研究内容 | 第23-25页 |
| ·参考文献 | 第25-31页 |
| 第二章 一维表面等离子体光催化材料Ag/AgVO_3纳米带的制备及其光催化性能研究 | 第31-55页 |
| ·实验方法 | 第32-35页 |
| ·材料与试剂 | 第32-33页 |
| ·样品制备 | 第33-34页 |
| ·光反应装置 | 第34页 |
| ·表征和计算模拟 | 第34-35页 |
| ·光催化降解实验 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-48页 |
| ·结构和形貌 | 第35-39页 |
| ·光学性质 | 第39-42页 |
| ·三维时域有限差分模拟和密度泛函计算 | 第42-44页 |
| ·催化活性 | 第44-45页 |
| ·催化机理 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| ·参考文献 | 第49-55页 |
| 第三章 一种新颖三元表面等离子体光催化材料：超薄g-C_3N_4纳米片复合Ag/AgVO_3纳米带增强可见光催化性能 | 第55-74页 |
| ·实验方法 | 第57-58页 |
| ·材料与试剂 | 第57页 |
| ·样品制备 | 第57页 |
| ·光反应装置 | 第57-58页 |
| ·表征 | 第58页 |
| ·光催化降解实验 | 第58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-68页 |
| ·结构和形貌 | 第58-62页 |
| ·光学性质 | 第62-64页 |
| ·三维时域有限差分模拟 | 第64-66页 |
| ·催化活性 | 第66-67页 |
| ·催化机理 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68页 |
| ·参考文献 | 第68-74页 |
| 第四章 表面等离子体复合光催化剂Ag/AgVO_3/RGO的构建及其可见光催化性能研究 | 第74-95页 |
| ·实验方法 | 第76-77页 |
| ·材料与试剂 | 第76页 |
| ·样品制备 | 第76页 |
| ·光反应装置 | 第76页 |
| ·表征 | 第76-77页 |
| ·光催化降解实验 | 第77页 |
| ·分析方法 | 第77页 |
| ·结果与讨论 | 第77-89页 |
| ·结构和形貌 | 第77-81页 |
| ·光学性质和光电流 | 第81-82页 |
| ·三维时域有限差分模拟 | 第82-83页 |
| ·催化活性 | 第83-88页 |
| ·催化机理 | 第88-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| ·参考文献 | 第90-95页 |
| 第五章 总结、创新点与展望 | 第95-98页 |
| ·总结 | 第95-96页 |
| ·创新点 | 第96页 |
| ·存在的问题及展望 | 第96-98页 |
| 附录 攻读博士期间获得荣誉及发表论文 | 第98-99页 |
| 致谢 | 第99-100页 |
