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非致冷红外探测器后端工艺技术研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
1 绪论第8-16页
   ·黑金红外吸收膜简介第8-9页
   ·MEMS 封装技术简介第9-12页
   ·红外探测器封装的简介以及简单的封装工艺第12-14页
   ·课题研究内容及全文框架第14页
   ·本文研究内容与文章安排第14-16页
2 黑金薄膜制备工艺研究第16-31页
   ·薄膜制备工艺第16-17页
   ·实验设备第17-20页
   ·真空镀膜实验过程第20-22页
   ·真空镀膜实验装置的改进第22-23页
   ·真空镀膜实验结果第23-30页
   ·本章小结第30-31页
3 封装金属化工艺第31-42页
   ·锡铅合金简介第31页
   ·锡铅合金电镀第31-35页
   ·电镀参数及实验过程第35-38页
   ·铅锡合金结果分析第38-41页
   ·本章小结第41-42页
4 键合工艺第42-49页
   ·键合力第42页
   ·表面处理第42页
   ·键合材料第42-44页
   ·红外探测器键合工艺及基本要求第44-47页
   ·器件的气密性检测第47-49页
5 总结第49-50页
致谢第50-51页
参考文献第51-55页
附录 材料特性参数第55-56页

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