PECVD氮化硅薄膜热导率特性的测试与研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| ·氮化硅薄膜概述 | 第9页 |
| ·研究微尺度下薄膜热导率的意义 | 第9-11页 |
| ·本论文的主要工作与意义 | 第11-13页 |
| ·本论文的主要工作 | 第11页 |
| ·本论文的意义 | 第11-13页 |
| 第二章 PECVD 氮化硅沉积工艺有限元分析介绍 | 第13-29页 |
| ·氮化硅薄膜沉积技术及比较 | 第13-19页 |
| ·直接氮化法 | 第13-14页 |
| ·物理气相沉积（PVD） | 第14-16页 |
| ·化学气相沉积技术(CVD) | 第16-18页 |
| ·各种氮化硅薄膜沉积技术的比较 | 第18-19页 |
| ·PECVD 氮化硅薄膜沉积基本原理 | 第19-25页 |
| ·PECVD 氮化硅薄膜沉积过程 | 第19-22页 |
| ·PECVD 氮化硅薄膜的生长过程 | 第22-23页 |
| ·PECVD 系统构成 | 第23-25页 |
| ·有限元分析法 | 第25-29页 |
| ·有限元分析法概述 | 第25-26页 |
| ·ANSYS 软件 | 第26-27页 |
| ·ANSYS 软件分析类型 | 第27-29页 |
| 第三章 薄膜热导率测试结构的设计与仿真 | 第29-52页 |
| ·薄膜热导率概述 | 第29-30页 |
| ·材料导热能力的特征参数 | 第30-32页 |
| ·热导率 | 第30-31页 |
| ·热扩散率 | 第31页 |
| ·热导率与热扩散率的关系 | 第31-32页 |
| ·薄膜热导率的测量方法 | 第32-38页 |
| ·静态测量法 | 第32-34页 |
| ·光热反射法 | 第34-35页 |
| ·双热电偶测量法 | 第35-36页 |
| ·3ω测量法 | 第36-38页 |
| ·直流法测试薄膜热导率 | 第38-51页 |
| ·直流法测试热导率的理论分析 | 第38-41页 |
| ·理论测试方法 | 第41-43页 |
| ·直流法测试薄膜热导率的仿真分析 | 第43-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 直流法测试结构的工艺与制备 | 第52-72页 |
| ·热导率测试结构的制造 | 第52-61页 |
| ·材料的选择 | 第52-55页 |
| ·测试结构的工艺流程 | 第55-58页 |
| ·测试结构的版图设计 | 第58-61页 |
| ·热导率测试结构的制备过程 | 第61-71页 |
| ·实验主要设备介绍 | 第61-62页 |
| ·详细工艺步骤 | 第62-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 总结与展望 | 第72-74页 |
| ·本文主要工作及结论 | 第72-73页 |
| ·以后工作展望 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
