钛合金微弧氧化陶瓷膜层的制备及高温氧化行为
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-26页 |
| ·课题来源及研究背景与意义 | 第14页 |
| ·国内外钛合金抗高温研究现状 | 第14-19页 |
| ·钛合金及其高温氧化 | 第14-15页 |
| ·钛合金表面处理技术及抗高温防护涂层 | 第15-19页 |
| ·微弧氧化技术 | 第19-23页 |
| ·钛合金微弧氧化技术 | 第19-20页 |
| ·钛合金微弧氧化电源 | 第20-21页 |
| ·钛合金微弧氧化电解液 | 第21-22页 |
| ·钛合金微弧氧化技术抗高温性能研究进展 | 第22-23页 |
| ·封孔后处理 | 第23-24页 |
| ·主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第2章 实验材料和方法 | 第26-34页 |
| ·实验材料及试剂 | 第26-27页 |
| ·实验材料 | 第26页 |
| ·试剂 | 第26-27页 |
| ·实验仪器及设备 | 第27-30页 |
| ·微弧氧化装置 | 第27-28页 |
| ·微弧氧化电源 | 第28-30页 |
| ·封孔装置 | 第30页 |
| ·实验方法 | 第30-34页 |
| ·微弧氧化膜硬度测试 | 第30-31页 |
| ·微弧氧化膜结合强度测试 | 第31-32页 |
| ·微弧氧化膜抗高温氧化性能测试 | 第32页 |
| ·微弧氧化膜形貌、组织结构研究方法 | 第32-34页 |
| 第3章 微弧氧化陶瓷膜的制备 | 第34-62页 |
| ·双脉冲条件下微弧氧化陶瓷膜层的制备 | 第34-42页 |
| ·铝酸盐体系陶瓷膜层 | 第34-39页 |
| ·硅酸盐体系陶瓷膜层的制备 | 第39-42页 |
| ·单脉冲条件下微弧氧化陶瓷膜的制备 | 第42-58页 |
| ·铝酸盐体系陶瓷膜层的制备 | 第42-52页 |
| ·抗高温陶瓷膜层制备条件的优化 | 第52-58页 |
| ·脉冲参数对微弧氧化陶瓷膜层生长的影响 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第4章 微弧氧化陶瓷膜层封孔后处理 | 第62-79页 |
| ·钛酸四丁酯/乙醇封孔法 | 第62-65页 |
| ·钛酸四丁酯/乙醇封孔后的表面形貌 | 第62页 |
| ·钛酸四丁酯/乙醇封孔后的高温氧化增重 | 第62-65页 |
| ·铝酸钠溶液封孔法 | 第65-66页 |
| ·铝酸钠溶液封孔后的表面形貌 | 第65-66页 |
| ·铝酸钠溶液封孔后的高温氧化增重 | 第66页 |
| ·电化学镀镍封孔法 | 第66-67页 |
| ·电化学镀镍封孔后的表面形貌 | 第66页 |
| ·电化学镀镍封孔后的高温氧化增重 | 第66-67页 |
| ·氧化铝超细粉末封孔法 | 第67-71页 |
| ·氧化铝超细粉末封孔后的表面形貌 | 第67-68页 |
| ·氧化铝超细粉末封孔后的高温氧化增重 | 第68-71页 |
| ·硅酸钠溶液封孔 | 第71-77页 |
| ·封孔试样及焙烧试样的表面形貌 | 第72-74页 |
| ·TC4 合金及焙烧后表面形貌 | 第74-76页 |
| ·膜层试样及焙烧后表面形貌 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第5章 膜层的高温氧化行为研究 | 第79-102页 |
| ·TC4 及膜层试样在1000℃ 下高温氧化行为 | 第79-91页 |
| ·空气中陶瓷膜高温氧化行为 | 第79-82页 |
| ·氩气中陶瓷膜高温氧化行为 | 第82-89页 |
| ·两种气氛下元素含量和高温增重比较 | 第89-91页 |
| ·TC4 及膜层试样在700℃ 下高温氧化行为 | 第91-94页 |
| ·TC4 合金高温氧化前后的形貌 | 第91-92页 |
| ·膜层试样高温氧化前后的形貌 | 第92-93页 |
| ·700℃ 下高温氧化行为分析 | 第93-94页 |
| ·陶瓷膜在500℃ 下抗高温氧化性能 | 第94-100页 |
| ·陶瓷膜表面形貌 | 第94-96页 |
| ·陶瓷膜相组成 | 第96-97页 |
| ·膜层结合强度测试 | 第97页 |
| ·陶瓷膜氧化增重曲线 | 第97-99页 |
| ·500℃ 下高温氧化行为分析 | 第99-100页 |
| ·本章小结 | 第100-102页 |
| 结论 | 第102-104页 |
| 参考文献 | 第104-112页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第112-114页 |
| 致谢 | 第114-115页 |
| 个人简历 | 第115页 |
