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植入复合纳米结构的光电性能研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-12页
第一章 绪论第12-26页
   ·离子注入制备纳米晶的研究第12-14页
     ·离子注入制备纳米晶的物理机制第12-13页
     ·植入纳米晶的特性概述第13-14页
   ·植入金属纳米晶的特性及研究进展第14-21页
     ·表面等离子共振吸收第14-19页
       ·表面等离子共振第14-16页
       ·表面等离子共振产生条件第16-18页
       ·金属纳米晶表面等离子共振吸收特性第18-19页
     ·非线性光学特性第19-21页
   ·植入半导体纳米晶的特性及研究进展第21-23页
   ·植入磁性纳米晶的特性及研究进展第23-24页
   ·本论文的目的及研究内容第24-26页
第二章 纳米晶制备原理及表征方法第26-34页
   ·离子注入及SRIM模拟第26-28页
   ·热退火处理第28页
   ·微观结构和宏观性能表征第28-34页
     ·X射线衍射分析第28-29页
     ·X射线光电子能谱第29-30页
     ·卢瑟福背散射谱第30页
     ·透射电子显微分析第30-31页
     ·紫外-可见分光光度法第31页
     ·荧光分光光度法第31-32页
     ·磁学性能测量第32-34页
第三章 单晶中制备Ni和NiO纳米晶的研究第34-72页
   ·引言第34页
   ·Ni和NiO纳米晶制备过程和表征第34-35页
   ·Al_2O_3单晶中的Ni和NiO纳米晶第35-47页
     ·SRIM模拟和RBS分析第36-38页
     ·X射线光电子能谱分析第38-39页
     ·X射线衍射分析第39-41页
     ·透射电子显微分析第41-44页
     ·吸收光谱分析第44-46页
     ·磁学性能测试第46-47页
   ·MgO单晶中的Ni和NiO纳米晶第47-55页
     ·SRIM模拟和RBS分析第47-49页
     ·X射线光电子能谱分析第49-50页
     ·透射电子显微分析第50-52页
     ·吸收光谱分析第52-53页
     ·磁学性能测试第53-55页
   ·YSZ单晶中的Ni和NiO纳米晶第55-63页
     ·SRIM模拟和RBS分析第56-59页
     ·X射线光电子能谱分析第59页
     ·透射电子显微分析第59-61页
     ·吸收光谱分析第61-62页
     ·磁学性能测试第62-63页
   ·TiO_2单晶中的Ni和NiO纳米晶第63-71页
     ·SRIM模拟第63-64页
     ·X射线光电子能谱分析第64-65页
     ·透射电子显微分析第65-66页
     ·吸收光谱分析第66-67页
     ·磁学性能测试第67-71页
   ·本章小结第71-72页
第四章 单晶中制备Zn和ZnO纳米晶的研究第72-89页
   ·引言第72-73页
   ·Zn和ZnO纳米晶制备过程和表征第73-74页
   ·相同注量的几种单晶的吸收光谱第74-77页
   ·不同注量Zn离子注入单晶Al_2O_3的吸收光谱第77-79页
   ·SRIM模拟和RBS分析第79-81页
   ·X射线光电子能谱分析第81-83页
   ·透射电子显微分析第83-85页
   ·荧光光谱分析第85-87页
   ·本章小结第87-89页
第五章 单晶中制备Sn和SnO_2纳米晶的研究第89-104页
   ·引言第89页
   ·Sn和SnO_2纳米晶制备过程和表征第89-90页
   ·Sn离子注入几种单晶的吸收光谱第90-94页
   ·SRIM模拟和RBS分析第94-96页
   ·X射线光电子能谱分析第96-97页
   ·X射线衍射分析第97-98页
   ·透射电子显微分析第98-100页
   ·荧光光谱分析第100-103页
   ·本章小结第103-104页
第六章 结论第104-106页
   ·全文总结第104-105页
   ·论文的创新第105-106页
致谢第106-107页
参考文献第107-121页
攻博期间取得的研究成果第121-122页

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