摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-12页 |
第一章 绪论 | 第12-26页 |
·离子注入制备纳米晶的研究 | 第12-14页 |
·离子注入制备纳米晶的物理机制 | 第12-13页 |
·植入纳米晶的特性概述 | 第13-14页 |
·植入金属纳米晶的特性及研究进展 | 第14-21页 |
·表面等离子共振吸收 | 第14-19页 |
·表面等离子共振 | 第14-16页 |
·表面等离子共振产生条件 | 第16-18页 |
·金属纳米晶表面等离子共振吸收特性 | 第18-19页 |
·非线性光学特性 | 第19-21页 |
·植入半导体纳米晶的特性及研究进展 | 第21-23页 |
·植入磁性纳米晶的特性及研究进展 | 第23-24页 |
·本论文的目的及研究内容 | 第24-26页 |
第二章 纳米晶制备原理及表征方法 | 第26-34页 |
·离子注入及SRIM模拟 | 第26-28页 |
·热退火处理 | 第28页 |
·微观结构和宏观性能表征 | 第28-34页 |
·X射线衍射分析 | 第28-29页 |
·X射线光电子能谱 | 第29-30页 |
·卢瑟福背散射谱 | 第30页 |
·透射电子显微分析 | 第30-31页 |
·紫外-可见分光光度法 | 第31页 |
·荧光分光光度法 | 第31-32页 |
·磁学性能测量 | 第32-34页 |
第三章 单晶中制备Ni和NiO纳米晶的研究 | 第34-72页 |
·引言 | 第34页 |
·Ni和NiO纳米晶制备过程和表征 | 第34-35页 |
·Al_2O_3单晶中的Ni和NiO纳米晶 | 第35-47页 |
·SRIM模拟和RBS分析 | 第36-38页 |
·X射线光电子能谱分析 | 第38-39页 |
·X射线衍射分析 | 第39-41页 |
·透射电子显微分析 | 第41-44页 |
·吸收光谱分析 | 第44-46页 |
·磁学性能测试 | 第46-47页 |
·MgO单晶中的Ni和NiO纳米晶 | 第47-55页 |
·SRIM模拟和RBS分析 | 第47-49页 |
·X射线光电子能谱分析 | 第49-50页 |
·透射电子显微分析 | 第50-52页 |
·吸收光谱分析 | 第52-53页 |
·磁学性能测试 | 第53-55页 |
·YSZ单晶中的Ni和NiO纳米晶 | 第55-63页 |
·SRIM模拟和RBS分析 | 第56-59页 |
·X射线光电子能谱分析 | 第59页 |
·透射电子显微分析 | 第59-61页 |
·吸收光谱分析 | 第61-62页 |
·磁学性能测试 | 第62-63页 |
·TiO_2单晶中的Ni和NiO纳米晶 | 第63-71页 |
·SRIM模拟 | 第63-64页 |
·X射线光电子能谱分析 | 第64-65页 |
·透射电子显微分析 | 第65-66页 |
·吸收光谱分析 | 第66-67页 |
·磁学性能测试 | 第67-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
第四章 单晶中制备Zn和ZnO纳米晶的研究 | 第72-89页 |
·引言 | 第72-73页 |
·Zn和ZnO纳米晶制备过程和表征 | 第73-74页 |
·相同注量的几种单晶的吸收光谱 | 第74-77页 |
·不同注量Zn离子注入单晶Al_2O_3的吸收光谱 | 第77-79页 |
·SRIM模拟和RBS分析 | 第79-81页 |
·X射线光电子能谱分析 | 第81-83页 |
·透射电子显微分析 | 第83-85页 |
·荧光光谱分析 | 第85-87页 |
·本章小结 | 第87-89页 |
第五章 单晶中制备Sn和SnO_2纳米晶的研究 | 第89-104页 |
·引言 | 第89页 |
·Sn和SnO_2纳米晶制备过程和表征 | 第89-90页 |
·Sn离子注入几种单晶的吸收光谱 | 第90-94页 |
·SRIM模拟和RBS分析 | 第94-96页 |
·X射线光电子能谱分析 | 第96-97页 |
·X射线衍射分析 | 第97-98页 |
·透射电子显微分析 | 第98-100页 |
·荧光光谱分析 | 第100-103页 |
·本章小结 | 第103-104页 |
第六章 结论 | 第104-106页 |
·全文总结 | 第104-105页 |
·论文的创新 | 第105-106页 |
致谢 | 第106-107页 |
参考文献 | 第107-121页 |
攻博期间取得的研究成果 | 第121-122页 |