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MOS电容高频C-V测试平台及SiGe PMOSFET阈值电压研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
1 绪论第8-19页
   ·MOS 电容的C-V 特性第8-11页
     ·理想情况下的C-V 曲线第9-10页
     ·实际情况下的C-V 曲线第10-11页
   ·MOS 电容C-V 特性测试的意义第11页
   ·C-V 特性测试仪的现状第11-14页
   ·MOS 电容高频C-V 测试平台研究的目的和意义第14页
   ·SIGE PMOSFET 概述第14-17页
     ·SiGe 器件的发展历程第14-16页
     ·国内外SiGe MOSFET 的研究状况第16-17页
     ·应变SiGe PMOSFET 阈值电压研究的意义第17页
   ·本论文的主要工作第17-19页
2 硬件电路总体方案设计第19-28页
   ·MOS 电容高频C-V 特性的测量原理第19-23页
     ·MOS 电容高频C-V 特性概述第19页
     ·电容的测量方法第19-21页
     ·MOS 电容测量原理第21-23页
   ·电路总体方案设计第23-27页
   ·电路设计指标第27页
   ·小结第27-28页
3 功能模块电路设计第28-48页
   ·高频信号产生模块第28-33页
     ·MAX038 高频函数发生器简介第28-30页
     ·高频信号产生电路的设计第30-33页
   ·检测模块第33-34页
   ·滤波模块第34-39页
   ·检波模块第39-42页
   ·电源模块第42-44页
   ·整体电路测试第44-47页
   ·小结第47-48页
4 应变SIGE 沟道PMOSFET 阈值电压模型第48-58页
   ·模型建立第48-53页
     ·一维模型第49-51页
     ·准二维模型第51-53页
   ·结果分析与讨论第53-57页
   ·小结第57-58页
5 总结第58-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-64页
附录 作者在攻读硕士学位期间发表的论文第64页

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