直流辉光氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-29页 |
| ·CVD金刚石膜的研究概况 | 第10页 |
| ·CVD金刚石膜的性能和应用 | 第10-14页 |
| ·CVD金刚石膜的制备 | 第14-17页 |
| ·CVD金刚石膜的加工 | 第17-28页 |
| ·抛光 | 第17-23页 |
| ·刻蚀 | 第23-28页 |
| ·本工作的目的和意义 | 第28-29页 |
| 第2章 直流等离子体装置的研制 | 第29-36页 |
| ·装置整体设计 | 第29页 |
| ·真空系统设计和组装 | 第29-31页 |
| ·直流电源设计和组装 | 第31-33页 |
| ·单探针的设计和制作 | 第33-35页 |
| ·本章小节 | 第35-36页 |
| 第3章 直流氧等离子体刻蚀金刚石膜的研究 | 第36-46页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验 | 第36-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-44页 |
| ·功率和气压对刻蚀的影响 | 第38-40页 |
| ·刻蚀模型 | 第40-43页 |
| ·影响机理 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 刻蚀增强机械抛光的研究 | 第46-52页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-51页 |
| ·刻蚀增强机械抛光 | 第47-50页 |
| ·刻蚀增强机械抛光的机理 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 刻蚀金刚石膜沉积炭须的研究 | 第52-59页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验 | 第52-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-58页 |
| ·刻蚀再沉积现象 | 第53-55页 |
| ·两种独特形貌的炭须 | 第55-57页 |
| ·排列炭须的沉积 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第6章 论文总结和展望 | 第59-61页 |
| ·论文总结 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 硕士期间发表的文章 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
