| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 绪论 | 第7-19页 |
| 一、引言 | 第7-8页 |
| 二、薄膜材料的特点和应用 | 第8-9页 |
| 三、薄膜材料的制备方法简介 | 第9-14页 |
| 四、ULSI用低介电常数薄膜的研究现状 | 第14-15页 |
| 五、氟碳(FC)薄膜的性质特点、应用及制备方法简介 | 第15-17页 |
| 六、本文的选题背景 | 第17-19页 |
| 第一章 介质阻挡放电(DBD) | 第19-30页 |
| ·介质阻挡放电等离子体 | 第19-20页 |
| ·介质阻挡放电的微放电 | 第20-22页 |
| ·介质阻挡放电的物理过程 | 第22-24页 |
| ·介质阻挡放电等效电路 | 第24-25页 |
| ·介质阻挡放电参数的测量 | 第25-29页 |
| ·电压 | 第26-27页 |
| ·电流 | 第27页 |
| ·功率 | 第27-29页 |
| 本章小结 | 第29-30页 |
| 第二章 低气压下介质阻挡放电沉积氟碳薄膜 | 第30-62页 |
| ·实验装置、实验方案及实验过程简述 | 第30-35页 |
| ·实验装置简介 | 第30-33页 |
| ·实验方案及过程简述 | 第33-35页 |
| ·低气压下沉积的FC薄膜的表面形貌分析 | 第35-44页 |
| ·电源放电频率对DBD氟碳薄膜表面形貌的影响 | 第37-41页 |
| ·沉积气压对DBD氟碳薄膜表面形貌的影响 | 第41-44页 |
| ·低气压下沉积的FC薄膜的XPS分析 | 第44-51页 |
| ·X射线光电子能谱分析基本原理 | 第44-47页 |
| ·不同沉积工艺下FC薄膜的XPS分析 | 第47-51页 |
| ·低气压下沉积的FC薄膜的FTIR分析 | 第51-56页 |
| ·傅立叶变换红外光谱分析基本原理 | 第51-53页 |
| ·不同沉积工艺下FC薄膜的FTIR分析 | 第53-56页 |
| ·低气压下沉积的FC薄膜的静态接触角测量 | 第56-60页 |
| ·憎水性与接触角测量技术 | 第56-58页 |
| ·FC薄膜的静态接触角测量分析 | 第58-60页 |
| ·放电频率与薄膜沉积速率的关系 | 第60-61页 |
| 本章小结 | 第61-62页 |
| 第三章 大气压下介质阻挡放电沉积氟碳薄膜 | 第62-68页 |
| ·实验装置及过程介绍 | 第62-63页 |
| ·大气压下沉积的FC薄膜的SEM表面形貌分析 | 第63-65页 |
| ·大气压下沉积的FC薄膜的XPS分析 | 第65-67页 |
| 本章小结 | 第67-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |