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SiC材料及SiC基MOS器件理论研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-9页
第一章 绪论第9-20页
 §1-1 SiC 的历史第9-10页
 §1-2 SiC 的品质因数第10-11页
 §1-3 SiC 的性质第11-15页
  1-3-1 宽带隙第11页
  1-3-2 高击穿电场第11-14页
  1-3-3 高饱和漂移速度第14页
  1-3-4 高热导率第14-15页
  1-3-5 热氧化第15页
  1-3-6 其他性质第15页
 §1-4 SiC 的结构第15-17页
  1-4-1 基本结构第15-16页
  1-4-2 多形体第16-17页
 §1-5 SiC 中的杂质能级第17-19页
 §1-6 论文的主要研究内容第19-20页
第二章 p 型 SiC 中杂质激发态的影响第20-42页
 §2-1 考虑到激发态的分布函数第20-21页
 §2-2 激发态对杂质电离的影响第21-26页
  2-2-1 电离度及其相对增加量第21-22页
  2-2-2 激发态对杂质电离的影响第22-26页
 §2-3 引入激发态因素的SiC 基n-MOSFET 的反型层电荷模型第26-35页
  2-3-1 泊松方程及表面电荷第27-28页
  2-3-2 反型层电荷模型第28-35页
  2-3-3 最大温度点与掺杂浓度和杂质能级深度的关系第35页
 §2-4 激发态对SiC 基MOS 电容的影响第35-41页
  2-4-1 理论背景第35-36页
  2-4-2 结果和讨论第36-41页
 §2-5 本章小结第41-42页
第三章 n 型 SiC 中基态施主能级分裂的影响第42-69页
 §3-1 适用于基态施主能级分裂的电子分布函数第42-52页
  3-1-1 分布函数的理论考虑第42-47页
  3-1-2 讨论第47-50页
  3-1-3 理论分析第50-52页
 §3-2 基态施主能级分裂对杂质电离的影响第52-56页
  3-2-1 能级分裂的影响与温度和掺杂浓度关系第53-55页
  3-2-2 能级分裂的影响与杂质能级深度的关系第55-56页
 §3-3 引入基态施主能级分裂因素的 SiC 基p-MOSFET 的反型层电荷模型第56-63页
  3-3-1 泊松方程及表面电荷第57-58页
  3-3-2 反型层电荷模型第58-63页
 §3-4 基态施主能级分裂对 MOS 电容的影响第63-67页
  3-4-1 能级分裂的影响与栅电压、掺杂浓度和温度的关系第63-66页
  3-4-2 能级分裂的影响与杂质能级深度的关系第66-67页
 §3-5 本章小结第67-69页
第四章 用于电路模拟的 SiC 基 MOSFET 高温沟道电子迁移率模型第69-76页
 §4-1 迁移率模型第69-72页
  4-1-1 体迁移率第69-70页
  4-1-2 库仑迁移率第70-71页
  4-1-3 表面粗糙散射第71页
  4-1-4 表面声子散射第71-72页
  4-1-5 高场迁移率第72页
 §4-2 界面陷阱电荷第72-74页
  4-2-1 界面态模型第72-73页
  4-2-2 界面态参数和固定氧化物电荷的提取方法第73-74页
 §4-3 模拟和分析第74-75页
  4-3-1 提取界面态参数和固定氧化物电荷第74页
  4-3-2 迁移率模型参数提取及模型验证第74-75页
 §4-4 本章小结第75-76页
第五章 SiC 基 MOSFET 表面势的显性表达式第76-96页
 §5-1 表面势的隐性表达式第76-78页
  5-1-1 表面电荷计算第76-77页
  5-1-2 界面陷阱电荷计算第77-78页
  5-1-3 计算表面势第78页
 §5-2 表面势的显性表达式第78-86页
  5-2-1 表面电场计算第78-79页
  5-2-2 计算表面势第79-86页
 §5-3 表面势显性表达式的修正第86-95页
  5-3-1 初步修正第86-89页
  5-3-2 进一步修正第89-95页
 §5-4 本章小结第95-96页
第六章 结论第96-97页
参考文献第97-105页
致谢第105-106页
攻读学位期间所取得的相关科研成果第106页

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