| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-23页 |
| ·(羟基)氧化铁概述 | 第9-16页 |
| ·分类 | 第9页 |
| ·各种(羟基)氧化铁结构特征 | 第9-11页 |
| ·物理性质 | 第11-12页 |
| ·(羟基)氧化铁制备方法 | 第12-14页 |
| ·(羟基)氧化铁的应用 | 第14-16页 |
| ·砷的危害及去除 | 第16-20页 |
| ·砷的存在形式及危害 | 第16-17页 |
| ·含砷饮用水/污水除砷方法 | 第17-19页 |
| ·Fe~(3+)在除砷中的应用 | 第19-20页 |
| ·微波在(羟基)氧化铁材料制备中的应用 | 第20-21页 |
| ·课题背景与意义 | 第21-23页 |
| 第二章 实验方法 | 第23-31页 |
| ·制备方法 | 第23-26页 |
| ·实验试剂与器材 | 第23-24页 |
| ·(羟基)氧化铁的制备方法 | 第24-26页 |
| ·表征方法 | 第26-29页 |
| ·X射线衍射分析 | 第26-27页 |
| ·热重分析TG | 第27页 |
| ·透射电镜(TEM)观察 | 第27页 |
| ·比表面积分析 | 第27-29页 |
| ·分析方法 | 第29-30页 |
| ·砷溶液配制 | 第29页 |
| ·氢化物发生-原子荧光分光光度法测砷 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 (羟基)氧化铁的表征 | 第31-45页 |
| ·X射线衍射分析 | 第31-36页 |
| ·热重分析TG | 第36-38页 |
| ·透射电镜(TEM)观察 | 第38-39页 |
| ·比表面积分析 | 第39-43页 |
| ·吸附等温线 | 第40-42页 |
| ·孔结构 | 第42-43页 |
| 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 (羟基)氧化铁对AS(Ⅴ)的静态吸附 | 第45-61页 |
| ·吸附质性质对除砷吸附的影响 | 第45-46页 |
| ·pH值 | 第45页 |
| ·温度 | 第45-46页 |
| ·接触时间 | 第46页 |
| ·(羟基)铁氧化物样品的静态除As(Ⅴ)的实验 | 第46-48页 |
| ·(羟基)氧化铁样品对As(Ⅴ)溶液的吸附 | 第46页 |
| ·三种(羟基)氧化铁样品吸附条件实验 | 第46-48页 |
| ·不同因素对As(Ⅴ)吸附的影响 | 第48-50页 |
| ·接触时间对微波制备铁氧化物吸附剂去除As(Ⅴ)的影响 | 第48-49页 |
| ·pH对微波制备铁氧化物吸附剂去除As(Ⅴ)的影响 | 第49页 |
| ·温度对微波制备铁氧化物吸附剂去除As(Ⅴ)的影响 | 第49-50页 |
| ·等温吸附方程拟合 | 第50-59页 |
| ·用Langmuir吸附等温方程拟合 | 第51-55页 |
| ·用Freundlich吸附等温方程拟合 | 第55-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-72页 |
| 附录 | 第72页 |
