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ITO薄膜的制备及性能研究

1 绪论第1-20页
   ·透明导电膜的种类及特点第6-11页
     ·In_2O_3薄膜的组织结构第8页
     ·In_2O_3薄膜的光学性质第8-9页
     ·ITO薄膜的电学性质第9-11页
   ·电学及光学上的应用第11-14页
     ·电致变色器件第11-12页
     ·液晶显示第12-13页
     ·太阳能电池第13页
     ·除霜玻璃第13页
     ·电磁屏蔽第13-14页
     ·热辐射反射镜第14页
   ·常用的制备工艺第14-18页
     ·磁控溅射第14-15页
     ·化学气相沉积第15-16页
     ·真空反应蒸发第16页
     ·溶胶-凝胶法第16-17页
     ·微波ECR等离子体反应蒸发沉积第17页
     ·脉冲激光沉积第17页
     ·喷射热分解第17-18页
   ·研究与应用现状及存在问题第18-20页
2 溅射镀膜原理第20-34页
   ·溅射机理及特点第21-23页
   ·溅射类型第23-27页
     ·直流溅射第23页
     ·射频溅射第23-26页
     ·磁控溅射第26-27页
   ·溅射特性第27-31页
     ·溅射阈值第27-28页
     ·溅射率第28-30页
     ·溅射粒子的能量和速度第30-31页
   ·溅射过程第31-33页
     ·靶材的溅射第31-32页
     ·溅射粒子的迁移过程第32页
     ·溅射粒子的成膜过程第32-33页
   ·本章小结第33-34页
3 实验第34-42页
   ·实验设备和过程第34-36页
   ·薄膜性能和结构测试第36-41页
     ·ITO薄膜紫外-可见光透过率测试第36-37页
     ·ITO薄膜厚度的测试第37-39页
     ·ITO薄膜方阻及电阻率的测试第39-41页
   ·本章小结第41-42页
4 工艺参数对ITO薄膜的特性影响第42-59页
   ·铟锡合金靶制备ITO薄膜第42-46页
     ·基片温度对ITO薄膜导电性的影响第42-43页
     ·氧偏压对室温沉积ITO薄膜导电性的影响第43-44页
     ·ITO薄膜的XRD和SEM分析第44-46页
   ·陶瓷靶制备ITO薄膜第46-58页
     ·采用陶瓷靶直流磁控溅射制备ITO薄膜第46-52页
     ·采用陶瓷靶射频磁控溅射制备ITO薄膜第52-58页
   ·本章小结第58-59页
5 结论第59-61页
参考文献第61-65页
附录第65-66页

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