| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·剃须刀片简介 | 第10-11页 |
| ·课题来源与目的 | 第11-12页 |
| ·类金刚石膜研究背景及意义 | 第12-13页 |
| ·类金刚石膜的结构与分类 | 第13-14页 |
| ·类金刚石膜的性能及应用 | 第14-19页 |
| ·类金刚石膜的性能 | 第14-16页 |
| ·类金刚石膜的应用 | 第16-18页 |
| ·应用中的问题 | 第18-19页 |
| ·类金刚石膜的制备方法 | 第19-21页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第19-20页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第20-21页 |
| ·类金刚石膜的表征 | 第21页 |
| ·类金刚石膜过渡层 | 第21-22页 |
| ·类金刚石膜生长机理模型 | 第22-23页 |
| ·本论文的主要研究内容、方法与意义 | 第23-25页 |
| 第二章 沉积类金刚石膜的实验设备与工艺 | 第25-41页 |
| ·实验方案 | 第25-26页 |
| ·rf-PECVD法简介 | 第26-27页 |
| ·rf-PECVD法制备DLC膜的沉积机理 | 第27-30页 |
| ·射频CH_4等离子体的产生 | 第27-28页 |
| ·等离子体与表面反应过程 | 第28-30页 |
| ·实验材料的选择 | 第30-31页 |
| ·实验操作的特殊要求 | 第31-32页 |
| ·实验前基片的预处理 | 第32-33页 |
| ·制备Cr过渡层的实验装置与实验步骤 | 第33-36页 |
| ·实验装置 | 第33-35页 |
| ·制备Cr过渡层的实验步骤 | 第35-36页 |
| ·rf-PECVD法沉积DLC膜的实验设备与实验步骤 | 第36-39页 |
| ·实验设备简介 | 第36-38页 |
| ·沉积DLC膜的实验步骤 | 第38-39页 |
| ·制备类金刚石膜工艺参数的确定 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 DLC膜的结构及形貌分析 | 第41-58页 |
| ·X射线衍射谱(XRD) | 第41-43页 |
| ·XRD原理 | 第41-42页 |
| ·实验结果与讨论 | 第42-43页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第43-51页 |
| ·Raman光谱原理 | 第43-44页 |
| ·实验结果与讨论 | 第44-51页 |
| ·扫描电镜分析(SEM) | 第51-57页 |
| ·SEM扫描设备及原理简介 | 第51-52页 |
| ·实验结果与讨论 | 第52-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 DLC膜的性能测试与分析 | 第58-71页 |
| ·纳米硬度分析 | 第58-64页 |
| ·纳米硬度测试基本原理 | 第58-60页 |
| ·实验结果与讨论 | 第60-64页 |
| ·摩擦磨损测试 | 第64-66页 |
| ·摩擦系数分析 | 第64-65页 |
| ·实验结果与讨论 | 第65-66页 |
| ·切割力测试 | 第66-68页 |
| ·使用寿命测试 | 第68-69页 |
| ·耐腐蚀性测试 | 第69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章 结论与建议 | 第71-74页 |
| ·结论 | 第71-72页 |
| ·建议 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 致谢 | 第79页 |