摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-16页 |
第一章 绪论 | 第16-49页 |
第一节 纳米二氧化硅及其表面改性 | 第16-23页 |
·纳米二氧化硅的特性 | 第16页 |
·纳米二氧化硅的制备方式 | 第16-17页 |
·纳米材料的分析与表征 | 第17-20页 |
·纳米二氧化硅的表面修饰 | 第20-23页 |
第二节 γ-氨丙基三乙氧基硅烷表面修饰的纳米SiO_2 | 第23-28页 |
·AMNS 的制备 | 第23-25页 |
·AMNS 的表征和氨基测定 | 第25-26页 |
·AMNS 的应用 | 第26-28页 |
第三节 γ-(2,3-环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷修饰的纳米SiO_2 | 第28-33页 |
·GMNS 的制备 | 第28-29页 |
·GMNS 的化学稳定性 | 第29-30页 |
·GMNS 的表征及环氧基团的测定 | 第30-31页 |
·GMNS 的应用 | 第31-33页 |
第四节 尼龙基纳米复合材料 | 第33-37页 |
·尼龙基纳米复合材料的制备方法 | 第33-34页 |
·尼龙基纳米复合材料的性能 | 第34-36页 |
·尼龙基纳米复合材料的表征 | 第36页 |
·尼龙基纳米复合材料的应用 | 第36-37页 |
第五节 选题依据和研究内容 | 第37-40页 |
·选题依据 | 第37-39页 |
·研究内容 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-49页 |
第二章 AMNS 表面氨基浓度的测定 | 第49-81页 |
第一节 盐酸-乙醇非水滴定法 | 第49-55页 |
·实验部分 | 第49-50页 |
·结果与讨论 | 第50-53页 |
·盐酸溶剂的选择 | 第50-51页 |
·APS 溶剂的选择 | 第51页 |
·指示剂的选择及滴定终点的确定 | 第51-53页 |
·样品分析 | 第53-55页 |
·小结 | 第55页 |
第二节 高氯酸-冰醋酸非水滴定法 | 第55-63页 |
·实验部分 | 第55-56页 |
·结果与讨论 | 第56-59页 |
·滴定体系的选择 | 第56-58页 |
·醋酸酐的影响 | 第58页 |
·分散剂的影响 | 第58页 |
·电位滴定法确定指示剂变色点 | 第58-59页 |
·样品及回收率测定 | 第59-62页 |
·小结 | 第62-63页 |
第三节 分光光度法 | 第63-71页 |
·实验部分 | 第63-64页 |
·结果与讨论 | 第64-69页 |
·波长的选择 | 第64-65页 |
·果糖浓度的影响 | 第65页 |
·pH 值的影响 | 第65页 |
·显色剂用量的影响 | 第65-66页 |
·加热温度和加热时间的影响 | 第66页 |
·冷却时间的选择 | 第66-67页 |
·缓冲溶液用量的影响 | 第67页 |
·KIO_3 溶液对测定体系的影响 | 第67页 |
·KIO_3 用量的影响 | 第67页 |
·二酮茚的稳定性试验 | 第67-68页 |
·溶剂的选择 | 第68页 |
·金属离子对显色反应的影响 | 第68-69页 |
·样品及回收率测定 | 第69-70页 |
·小结 | 第70-71页 |
第四节 循环伏安法 | 第71-76页 |
·实验部分 | 第71-72页 |
·结果与讨论 | 第72-74页 |
·铜离子在玻碳电极及修饰玻碳电极上的电化学行为 | 第72-73页 |
·底液pH 值的影响 | 第73页 |
·支持电解质的影响 | 第73-74页 |
·峰电流与扫描速率的关系 | 第74页 |
·富集时间的影响 | 第74页 |
·干扰试验 | 第74页 |
·样品分析 | 第74-75页 |
·小结 | 第75-76页 |
第五节 凯氏定氮法 | 第76-77页 |
·实验部分 | 第76-77页 |
·样品测定 | 第77页 |
第六节 几种分析方法的比较 | 第77-79页 |
本章小结 | 第79页 |
参考文献 | 第79-81页 |
第三章 GMNS 表面环氧基浓度的测定 | 第81-119页 |
第一节 盐酸-丁酮法 | 第81-86页 |
·实验部分 | 第82页 |
·结果与讨论 | 第82-85页 |
·酸及溶剂的选择 | 第82-83页 |
·滴定剂及其溶剂的选择 | 第83页 |
·盐酸与丁酮的比例(体积比)及静置时间的选择 | 第83-84页 |
·指示剂的选择 | 第84-85页 |
·样品分析 | 第85-86页 |
·小结 | 第86页 |
第二节 高氯酸-冰醋酸非水滴定法 | 第86-92页 |
·实验部分 | 第87-88页 |
·结果与讨论 | 第88-89页 |
·醋酸酐的影响 | 第88页 |
·分散剂的影响 | 第88页 |
·四乙基溴化铵加入量的影响 | 第88页 |
·电位滴定法确定终点 | 第88-89页 |
·样品及回收率测定 | 第89-92页 |
·小结 | 第92页 |
第三节 紫外分光光度法 | 第92-99页 |
·实验部分 | 第92-93页 |
·结果与讨论 | 第93-97页 |
·最大吸收波长的选择 | 第93页 |
·水解条件的选择 | 第93页 |
·氧化条件的选择 | 第93-95页 |
·测定条件的选择 | 第95-96页 |
·干扰试验 | 第96-97页 |
·样品测定 | 第97-99页 |
·小结 | 第99页 |
第四节 荧光分光光度法 | 第99-103页 |
·实验部分 | 第100-101页 |
·结果与讨论 | 第101-102页 |
·黄色产物的激发和发射光谱 | 第101页 |
·铵盐及其浓度的选择 | 第101页 |
·温度和时间的确定 | 第101页 |
·pH 值的影响 | 第101-102页 |
·乙酰丙酮浓度的影响 | 第102页 |
·荧光产物的稳定性 | 第102页 |
·共存物质的影响 | 第102页 |
·样品测定 | 第102-103页 |
·小结 | 第103页 |
第五节 示波极谱法 | 第103-108页 |
·实验部分 | 第104页 |
·结果与讨论 | 第104-106页 |
·极谱还原波 | 第105页 |
·底液选择及其pH 的影响 | 第105页 |
·硫酸肼浓度的影响 | 第105页 |
·反应时间的选择 | 第105-106页 |
·干扰实验 | 第106页 |
·样品测定 | 第106-108页 |
·小结 | 第108页 |
第六节 电位滴定分析法 | 第108-114页 |
·实验部分 | 第108-109页 |
·结果与讨论 | 第109-112页 |
·对硝基苯胺在铂电极表面的电化学聚合 | 第109-110页 |
·修饰电极表面的SEM 分析 | 第110页 |
·对硝基苯胺及聚合物薄膜的红外光谱 | 第110-111页 |
·修饰电极对pH 的响应 | 第111页 |
·在水溶液中的酸碱滴定曲线 | 第111-112页 |
·修饰电极的稳定性 | 第112页 |
·修饰电极的重现性 | 第112页 |
·修饰电极的响应速率及寿命 | 第112页 |
·干扰离子对修饰电极性能的影响 | 第112页 |
·应用 | 第112-114页 |
·水溶液中的酸碱滴定 | 第112-113页 |
·GMNS 表面环氧基的测定 | 第113-114页 |
·小结 | 第114页 |
第七节 几种测定分析方法的比较 | 第114-116页 |
本章小结 | 第116页 |
参考文献 | 第116-119页 |
第四章 AMNS/尼龙6 复合材料的结构和性能分析 | 第119-150页 |
第一节 AMNS 及AMNS/尼龙6 复合材料的制备和表征 | 第119-124页 |
·实验部分 | 第119-120页 |
·结果分析 | 第120-124页 |
·AMNS 表面氨基浓度的测定 | 第120-121页 |
·AMNS-1 的FTIR 表征 | 第121页 |
·XPS 分析 | 第121-123页 |
·透射电镜分析 | 第123-124页 |
·小结 | 第124页 |
第二节 AMNS/尼龙6 复合材料的界面结构分析 | 第124-134页 |
·纳米复合材料的溶解和离心分离处理 | 第126页 |
·AMNS/尼龙6 复合材料的界面结构分析及模型 | 第126-134页 |
·红外分析 | 第126-127页 |
·XPS 分析 | 第127-130页 |
·热重分析 | 第130-131页 |
·电镜分析 | 第131页 |
·AMNS/尼龙6 复合材料的形成过程 | 第131-133页 |
·AMNS 表面与尼龙6 的界面结构模型 | 第133-134页 |
·小结 | 第134页 |
第三节 AMNS/尼龙6 纳米复合材料的力学性能和热性能 | 第134-146页 |
·结果分析 | 第135-145页 |
·AMNS/尼龙6 复合材料的冲击断面形貌分析 | 第135-136页 |
·AMNS/尼龙6 复合材料的力学性能分析 | 第136-140页 |
·AMNS/尼龙6 纳米复合材料的热重分析 | 第140-141页 |
·AMNS/尼龙6 纳米复合材料的DSC 分析 | 第141-143页 |
·AMNS/尼龙6 复合材料的X 射线衍射分析 | 第143-145页 |
·小结 | 第145-146页 |
本章小结 | 第146-147页 |
参考文献 | 第147-150页 |
第五章 结论与展望 | 第150-154页 |
结论 | 第150-152页 |
展望 | 第152-154页 |
作者简介 | 第154页 |
攻读博士学位期间发表的论文 | 第154-155页 |
致谢 | 第155页 |