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TiO2/SiO2/GDY复合光催化剂的制备及光催化降解性能研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第一章 绪论第14-34页
    1.1 二氧化钛半导体材料研究状况第14-15页
    1.2 二氧化钛半导体材料概述第15-18页
        1.2.1 二氧化钛的结构和性质第15-17页
        1.2.2 二氧化钛半导体材料催化机理第17-18页
    1.3 TiO_2光催化材料的制备方法第18-21页
        1.3.1 水热法第19-20页
        1.3.2 溶胶-凝胶法第20页
        1.3.3 直接氧化法第20-21页
        1.3.4 W/O微乳法第21页
        1.3.5 化学气相沉积法第21页
    1.4 二氧化钛光催化材料的应用第21-25页
        1.4.1 环境治理第22-23页
        1.4.2 印刷业第23页
        1.4.3 电池电极领域第23-24页
        1.4.4 杀菌第24-25页
        1.4.5 其他领域第25页
    1.5 二氧化钛光催化材料的改性第25-31页
        1.5.1 半导体复合第26-27页
        1.5.2 贵金属沉积第27-28页
        1.5.3 离子掺杂第28-29页
        1.5.4 染料敏化第29-30页
        1.5.5 碳材料改性第30-31页
    1.6 课题的研究目的第31-32页
    1.7 课题的研究内容及创新点第32-34页
        1.7.1 课题研究内容第32-33页
        1.7.2 创新点第33-34页
第二章 实验部分第34-40页
    2.1 实验试剂与仪器第34-35页
        2.1.1 实验试剂第34页
        2.1.2 实验仪器第34-35页
    2.2 材料的合成第35页
        2.2.1 Ti/Si复合光催化材料的制备第35页
        2.2.2 Ti/Si/GDY光催化材料的制备第35页
    2.3 材料的表征与测试第35-37页
        2.3.1 傅立叶红外光谱(FTIR)第35-36页
        2.3.2 X射线衍射(XRD)第36页
        2.3.3 X射线光电子能谱分析(XPS)第36页
        2.3.4 拉曼光谱(Raman)第36页
        2.3.5 紫外-可见吸收光谱(UV-vis)第36页
        2.3.6 紫外可见漫反射分析(UV-vis DRS)第36页
        2.3.7 N2吸附-脱附性能测试第36-37页
        2.3.8 扫描电子显微镜(SEM)第37页
    2.4 光催化性能测试第37-40页
        2.4.1 标准曲线的绘制第37页
        2.4.2 紫外-可见光降解实验第37-38页
        2.4.3 超声催化降解实验第38页
        2.4.4 催化剂降解效率计算第38页
        2.4.5 光催化剂降解动力学模型计算第38-40页
第三章 TiO_2/SiO_2 复合光催化剂的制备及光降解性能研究第40-52页
    3.1 引言第40-41页
    3.2 实验部分第41-42页
        3.2.1 Ti/Si复合光催化材料的制备第41页
        3.2.2 样品的表征第41-42页
        3.2.3 紫外光降解实验第42页
    3.3 结果与讨论第42-50页
        3.3.1 FTIR分析第42-43页
        3.3.2 N_2吸附-脱附性能分析第43-47页
        3.3.3 SEM分析第47-48页
        3.3.4 XRD分析第48-49页
        3.3.5 紫外光降解性能测试分析第49-50页
        3.3.6 重复性能测试第50页
    3.4 本章小结第50-52页
第四章 TiO_2/SiO_2/GDY复合光催化剂的制备及光降解性能研究第52-64页
    4.1 引言第52-53页
    4.2 实验部分第53-54页
        4.2.1 石墨炔单体制备第53页
        4.2.2 石墨炔粉末合成(GDY)第53页
        4.2.3 复合光催化材料的合成第53-54页
        4.2.4 样品的表征第54页
        4.2.5 紫外光降解测试第54页
    4.3 结果与讨论第54-62页
        4.3.1 XRD分析第55-56页
        4.3.2 SEM分析第56-57页
        4.3.3 Raman分析第57-58页
        4.3.4 XPS分析第58-59页
        4.3.5 UV-vis DRS分析第59页
        4.3.6 可见光降解性能研究第59-61页
        4.3.7 光催化机理探究第61-62页
        4.3.8 重复性能测试第62页
    4.4 本章小结第62-64页
第五章 TiO_2/SiO_2/GDY复合光催化材料应用于工业染料的超声降解性能研究第64-72页
    5.1 引言第64-65页
    5.2 实验部分第65-67页
        5.2.1 染料初始浓度的影响第65-66页
        5.2.2 光催化剂用量的影响第66页
        5.2.3 超声频率的影响第66页
        5.2.4 降解时间的影响第66-67页
    5.3 结果与讨论第67-70页
        5.3.1 染料初始浓度的影响第67-68页
        5.3.2 催化剂用量的影响第68-69页
        5.3.3 超声功率的影响第69-70页
        5.3.4 降解时间的影响第70页
    5.4 本章小结第70-72页
第六章 结论与展望第72-74页
    6.1 结论第72-73页
    6.2 展望第73-74页
参考文献第74-88页
硕士期间发表的论文第88-90页
致谢第90页

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