高分辨电感耦合等离子体质谱在高纯金属分析中的应用研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-32页 |
| ·ICP-MS技术及发展 | 第12-23页 |
| ·ICP-MS仪器结构及原理 | 第12-14页 |
| ·样品制备 | 第14页 |
| ·进样方法 | 第14-19页 |
| ·ICP-MS干扰及其校正方法 | 第19-21页 |
| ·ICP-MS的发展及应用 | 第21-23页 |
| ·HR-ICP-MS分析技术 | 第23-28页 |
| ·HR-ICP-MS仪器结构及原理 | 第23-24页 |
| ·HR-ICP-MS的应用 | 第24-28页 |
| ·本论文的研究目的和主要研究内容 | 第28-32页 |
| ·研究目的 | 第28-29页 |
| ·主要研究内容 | 第29-32页 |
| 第二章 高分辨质谱法测定高纯氧化锌中的杂质元素 | 第32-49页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验部分 | 第32-34页 |
| ·仪器和试剂 | 第32-33页 |
| ·质谱仪工作参数 | 第33页 |
| ·样品处理 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-47页 |
| ·样品消解酸的选择 | 第34页 |
| ·定性扫描 | 第34页 |
| ·质谱干扰 | 第34-43页 |
| ·非谱干扰 | 第43-45页 |
| ·标准物质NIST SRM 728的分析 | 第45-46页 |
| ·方法的检出限 | 第46-47页 |
| ·样品分析 | 第47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 第三章 高纯二氧化钛中痕量元素的高分辨质谱分析 | 第49-63页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验部分 | 第49-51页 |
| ·仪器及操作条件 | 第49-50页 |
| ·标准溶液及试剂 | 第50页 |
| ·样品处理 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-62页 |
| ·仪器测定条件的优化 | 第51页 |
| ·同位素的选择和质谱干扰 | 第51-57页 |
| ·基体效应 | 第57-58页 |
| ·检出限、分析精度和回收率 | 第58-61页 |
| ·样品分析 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 第四章 高分辨质谱法直接测定高纯镓中的痕量元素 | 第63-75页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·实验部分 | 第63-65页 |
| ·仪器和试剂 | 第63-64页 |
| ·质谱仪工作参数 | 第64页 |
| ·样品处理 | 第64页 |
| ·内标混合液的引入 | 第64-65页 |
| ·结果与讨论 | 第65-73页 |
| ·仪器测定条件的优化 | 第65页 |
| ·同位素的选择和质谱干扰 | 第65-68页 |
| ·基体效应 | 第68-69页 |
| ·物理效应 | 第69-71页 |
| ·检出限、分析精度和回收率 | 第71-72页 |
| ·样品分析 | 第72-73页 |
| ·小结 | 第73-75页 |
| 第五章 高纯金属钴中痕量杂质的高分辨质谱分析 | 第75-85页 |
| ·引言 | 第75页 |
| ·实验部分 | 第75-78页 |
| ·仪器 | 第75-77页 |
| ·标准与试剂 | 第77-78页 |
| ·样品的处理 | 第78页 |
| ·内标混合液的引入 | 第78页 |
| ·结果与讨论 | 第78-84页 |
| ·质谱干扰 | 第78-80页 |
| ·非谱干扰 | 第80-81页 |
| ·检出限、精密度和加标回收率 | 第81-83页 |
| ·实际样品分析 | 第83-84页 |
| ·小结 | 第84-85页 |
| 第六章 有机酸在高分辨质谱中基体效应的研究 | 第85-98页 |
| ·引言 | 第85页 |
| ·实验部分 | 第85-86页 |
| ·主要仪器和试剂 | 第85-86页 |
| ·仪器工作参数 | 第86页 |
| ·实验方法 | 第86页 |
| ·结果与讨论 | 第86-97页 |
| ·有机酸的基体效应 | 第86-89页 |
| ·仪器参数与有机酸增强效应的关系 | 第89-94页 |
| ·有机酸增强效应的机制探讨 | 第94-95页 |
| ·检出限 | 第95-96页 |
| ·分析应用 | 第96-97页 |
| ·小结 | 第97-98页 |
| 第七章 结论与展望 | 第98-103页 |
| ·主要结论 | 第98-102页 |
| ·高纯氧化锌高分辨质谱分析 | 第98-99页 |
| ·高纯二氧化钛高分辨质谱分析 | 第99页 |
| ·高纯金属镓高分辨质谱分析 | 第99-100页 |
| ·高纯金属钴高分辨质谱分析 | 第100-101页 |
| ·有机酸高分辨质谱基体效应 | 第101-102页 |
| ·展望 | 第102-103页 |
| 参考文献 | 第103-119页 |
| 致谢 | 第119-120页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果目录 | 第120-121页 |
