钨基氧化物电学特性的变温测量与相关分析
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-28页 |
| ·压敏电阻器 | 第12-16页 |
| ·压敏电阻的电学特性 | 第12-14页 |
| ·压敏电阻主要性能参数 | 第14-15页 |
| ·压敏电阻的应用 | 第15-16页 |
| ·低压压敏电阻陶瓷材料 | 第16页 |
| ·WO_3基本物理、化学性质 | 第16-20页 |
| ·WO_3的晶体结构与相变 | 第17-18页 |
| ·WO_3的电学性质 | 第18-19页 |
| ·WO_3的光学性质 | 第19页 |
| ·WO_3的磁学性质 | 第19页 |
| ·WO_3的热学性质 | 第19-20页 |
| ·WO_3的其它性质 | 第20页 |
| ·WO_3的应用前景 | 第20-25页 |
| ·光、电变色材料 | 第20-21页 |
| ·可变发射率热控涂层材料 | 第21-22页 |
| ·压敏电阻材料 | 第22-23页 |
| ·气体传感材料 | 第23-24页 |
| ·光催化降解材料 | 第24页 |
| ·固溶体电极材料 | 第24-25页 |
| ·微波吸收材料 | 第25页 |
| ·新型高温热电材料 | 第25页 |
| ·本文的研究背景和意义 | 第25-26页 |
| ·本文工作 | 第26-28页 |
| 第2章 样品制备与表征方法 | 第28-38页 |
| ·多晶陶瓷样品的制备过程 | 第28-31页 |
| ·配料 | 第28页 |
| ·粉体制备 | 第28-29页 |
| ·造粒 | 第29页 |
| ·成型 | 第29-30页 |
| ·烧结 | 第30-31页 |
| ·后处理 | 第31页 |
| ·表征方法 | 第31-38页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第31-33页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第33页 |
| ·热分析(TA) | 第33-34页 |
| ·高温电学性能测试系统 | 第34-35页 |
| ·伏安特性分析 | 第35-36页 |
| ·交流阻抗分析 | 第36-38页 |
| 第3章 中高温区下WO_3陶瓷的电学性质 | 第38-45页 |
| ·SEM分析 | 第38页 |
| ·热重-差热分析 | 第38-39页 |
| ·伏安特性 | 第39-41页 |
| ·阻抗特性 | 第41-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第4章 淬火处理对WO_3陶瓷结构与性能的影响 | 第45-52页 |
| ·淬火工艺 | 第45-46页 |
| ·SEM分析 | 第46-47页 |
| ·密度与直径收缩率 | 第47-48页 |
| ·XRD分析 | 第48-49页 |
| ·伏安特性 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第5章 气氛处理对WO_3陶瓷结构与性能的影响 | 第52-59页 |
| ·实验部分 | 第52-53页 |
| ·XRD与SEM分析 | 第53-54页 |
| ·伏安特性 | 第54-55页 |
| ·阻抗特性 | 第55-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第6章 CuO掺杂对WO_3陶瓷电学性能的影响 | 第59-67页 |
| ·实验部分 | 第59页 |
| ·伏安特性 | 第59-61页 |
| ·XRD分析 | 第61页 |
| ·SEM分析 | 第61-64页 |
| ·阻抗特性 | 第64-65页 |
| ·AES分析 | 第65-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第78-79页 |
