| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·ZnO薄膜的基本性质 | 第11-15页 |
| ·ZnO薄膜的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·ZnO薄膜的性质及应用 | 第12-15页 |
| ·TiO_2薄膜的基本性质 | 第15-18页 |
| ·TiO_2薄膜的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·TiO_2薄膜的性质及应用 | 第16-18页 |
| ·薄膜制备方法 | 第18-21页 |
| ·反应磁控溅射(RMS) | 第18-19页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第19-20页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第20页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第21页 |
| ·本论文的研究内容、创新点和意义 | 第21-24页 |
| 第2章 磁控溅射镀膜基本原理及薄膜性能表征 | 第24-42页 |
| ·薄膜生长模式与机理 | 第24-26页 |
| ·溅射的基本理论 | 第26-27页 |
| ·基本溅射镀膜类型 | 第27-33页 |
| ·直流溅射 | 第27-28页 |
| ·射频溅射 | 第28-29页 |
| ·反应溅射 | 第29-30页 |
| ·磁控溅射 | 第30-33页 |
| ·实验装置及应用分析 | 第33-36页 |
| ·四靶共溅磁控溅射装置 | 第33-34页 |
| ·ZnO、TiO_2的射频反应磁控溅射制备原理 | 第34页 |
| ·影响磁控溅射沉积ZnO、TiO_2薄膜质量的主要因素 | 第34-36页 |
| ·ZnO、TiO_2薄膜制备 | 第36-38页 |
| ·基底预处理方法 | 第36-37页 |
| ·磁控溅射镀膜实验步骤 | 第37-38页 |
| ·结构与性能分析方法 | 第38-42页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第38-39页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第39页 |
| ·紫外-可见分光光度计(UV-VIS)分析 | 第39-40页 |
| ·光致发光谱(PL)分析 | 第40页 |
| ·I-V曲线测试分析 | 第40-42页 |
| 第3章 ZnO薄膜微结构及性能 | 第42-61页 |
| ·溅射功率的影响 | 第43-47页 |
| ·基片温度的影响 | 第47-51页 |
| ·溅射气压的影响 | 第51-55页 |
| ·氩氧比的影响 | 第55-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第4章 TiO_2薄膜微结构及性能 | 第61-77页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第61页 |
| ·TiO_2薄膜微结构分析 | 第61-70页 |
| ·溅射功率的影响 | 第61-65页 |
| ·基片温度的影响 | 第65-66页 |
| ·溅射气压的影响 | 第66-68页 |
| ·氩氧比的影响 | 第68-70页 |
| ·TiO_2薄膜紫外吸收(UV-VIS)分析 | 第70-74页 |
| ·致密TiO_2薄膜光阳极修饰功能 | 第74-75页 |
| ·TiO_2染料敏化太阳能电池(DSCC)的制备 | 第74页 |
| ·DSCC的光电性能 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 攻读硕士期间发表的论文和科研成果 | 第88-89页 |