| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 ZnO的基本性质及其应用 | 第13-18页 |
| 1.2.1 ZnO的晶体结构 | 第13-14页 |
| 1.2.2 ZnO中的本征缺陷 | 第14-16页 |
| 1.2.3 ZnO薄膜的应用 | 第16-18页 |
| 1.3 ZnO的能带工程 | 第18-21页 |
| 1.3.1 等价阳离子取代的能带工程 | 第18-20页 |
| 1.3.2 等价阴离子取代的能带工程 | 第20-21页 |
| 1.4 ZnO的p型掺杂 | 第21-23页 |
| 1.5 本课题的选题思路和主要研究内容 | 第23-25页 |
| 2 薄膜材料的制备工艺及分析测试方法 | 第25-38页 |
| 2.1 薄膜的外延生长技术简介 | 第25-28页 |
| 2.1.1 真空蒸发沉积 | 第25页 |
| 2.1.2 金属有机化学气相沉积法(MOCVD) | 第25-26页 |
| 2.1.3 磁控溅射法(Magnetron Sputtering,MS) | 第26-27页 |
| 2.1.4 分子束外延法(Molecular Beam Epitaxy,MBE) | 第27页 |
| 2.1.5 脉冲激光沉积法(Pulsed Laser Deposition,PLD) | 第27-28页 |
| 2.2 脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第28-31页 |
| 2.2.1 脉冲激光沉积(PLD)概述 | 第28页 |
| 2.2.2 脉冲激光沉积(PLD)的原理 | 第28-29页 |
| 2.2.3 脉冲激光沉积(PLD)的特点 | 第29-30页 |
| 2.2.4 脉冲激光沉积(PLD)设备简介 | 第30-31页 |
| 2.3 氮掺杂ZnOS薄膜的制备工艺 | 第31-33页 |
| 2.4 氮掺杂ZnOS薄膜的分析测试方法 | 第33-38页 |
| 2.4.1 原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM) | 第34页 |
| 2.4.2 X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD) | 第34-36页 |
| 2.4.3 紫外-可见分光光度计(UV-VIS Spectrophotometer) | 第36页 |
| 2.4.4 X射线光电子能谱(X-Ray Photoelectron Spectroscopy,XPS) | 第36-37页 |
| 2.4.5 拉曼光谱(Raman Spectrum) | 第37-38页 |
| 3 利用N_2和O_2制备ZnOS薄膜及性能研究 | 第38-46页 |
| 3.1 样品的制备 | 第38-39页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第39-45页 |
| 3.2.1 不同气氛条件对ZnOS薄膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| 3.2.2 不同气氛条件对ZnOS薄膜相结构的影响 | 第40-41页 |
| 3.2.3 不同气氛条件对ZnOS薄膜成分的影响 | 第41-43页 |
| 3.2.4 不同气氛条件对ZnOS薄膜光学性能的影响 | 第43-45页 |
| 3.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 4 衬底温度对NO制备ZnOS薄膜结构和性能的影响 | 第46-53页 |
| 4.1 样品的制备 | 第46-47页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第47-51页 |
| 4.2.1 衬底温度对NO制备ZnOS薄膜表面形貌的影响 | 第47-48页 |
| 4.2.2 衬底温度对NO制备ZnOS薄膜相结构的影响 | 第48-49页 |
| 4.2.3 衬底温度对NO制备ZnOS薄膜成分的影响 | 第49-50页 |
| 4.2.4 衬底温度对NO制备ZnOS薄膜光学性能的影响 | 第50-51页 |
| 4.3 本章小结 | 第51-53页 |
| 5 NO气压对ZnOS薄膜结构和性能的影响 | 第53-62页 |
| 5.1 样品的制备 | 第53-54页 |
| 5.2 实验结果与讨论 | 第54-61页 |
| 5.2.1 NO分压对ZnOS薄膜表面形貌的影响 | 第54-55页 |
| 5.2.2 NO分压对ZnOS薄膜结构的影响 | 第55-57页 |
| 5.2.3 NO分压对ZnOS薄膜成分的影响 | 第57-59页 |
| 5.2.4 NO分压对ZnOS薄膜光学性能的影响 | 第59-61页 |
| 5.3 本章小结 | 第61-62页 |
| 6 N离子注入和脉冲激光退火对ZnOS薄膜结构和性能的影响 | 第62-69页 |
| 6.1 样品的制备 | 第62-63页 |
| 6.2 实验结果与讨论 | 第63-68页 |
| 6.2.1 N离子注入和脉冲激光退火对ZnOS薄膜表面形貌的影响 | 第63-64页 |
| 6.2.2 N离子注入和脉冲激光退火对ZnOS薄膜结构的影响 | 第64-65页 |
| 6.2.3 N离子注入和脉冲激光退火对ZnOS薄膜成分的影响 | 第65-66页 |
| 6.2.4 N离子注入和脉冲激光退火对ZnOS薄膜光学性能的影响 | 第66-68页 |
| 6.3 本章小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 附录 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
