| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题来源及研究目的 | 第9页 |
| 1.2 课题背景及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.3 国内外研究现状与问题分析 | 第10-14页 |
| 1.4 本文的主要工作与结构 | 第14-18页 |
| 2 SLM过程的有限元分析基本理论 | 第18-25页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 SLM过程温度场分析基本理论 | 第18-19页 |
| 2.3 SLM过程应力场分析基本理论 | 第19-23页 |
| 2.4 瞬态有限元分析热源的选择 | 第23-24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 3 SLM过程温度场模拟及分析 | 第25-35页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 温度场有限元模型的建立 | 第25-28页 |
| 3.3 热源加载与求解 | 第28-30页 |
| 3.4 单层成型温度场的模拟与结果分析 | 第30-32页 |
| 3.5 多层成型温度场的模拟与结果分析 | 第32-34页 |
| 3.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 4 SLM过程应力场模拟及分析 | 第35-43页 |
| 4.1 引言 | 第35页 |
| 4.2 应力场有限元分析的特点及步骤 | 第35-37页 |
| 4.3 单层成型应力场的模拟与结果分析 | 第37-38页 |
| 4.4 多层成型应力场的模拟与结果分析 | 第38-42页 |
| 4.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 5 基于温度场及应力场分析的扫描路径优化 | 第43-63页 |
| 5.1 引言 | 第43页 |
| 5.2 扫描成型方式与有限元模型的建立 | 第43-46页 |
| 5.3 不同扫描方式下的温度场结果对比及分析 | 第46-49页 |
| 5.4 不同扫描方式下的应力场及翘曲变形结果对比及分析 | 第49-58页 |
| 5.5 薄壁结构多层扫描成型方式的选择及优化 | 第58-61页 |
| 5.6 本章小结 | 第61-63页 |
| 6 总结与展望 | 第63-65页 |
| 6.1 主要结论 | 第63-64页 |
| 6.2 研究展望 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间所取得学术成果目录 | 第71页 |