| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 课题来源、研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-14页 |
| 1.3 本文主要工作和内容 | 第14-16页 |
| 2 EUVL真空系统实验平台简介及控制系统需求分析 | 第16-27页 |
| 2.1 EUVL真空系统实验平台需求分析 | 第16-18页 |
| 2.2 EUVL真空系统实验平台简介 | 第18-20页 |
| 2.3 控制系统需求分析 | 第20-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 3 EUVL真空实验平台控制系统方案设计 | 第27-37页 |
| 3.1 控制系统方案设计 | 第27-32页 |
| 3.2 真空度监测方案设计 | 第32-34页 |
| 3.3 控制系统方案简介 | 第34-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 4 控制系统硬件设计 | 第37-49页 |
| 4.1 硬件选型 | 第37-39页 |
| 4.2 PLC接口设计 | 第39-41页 |
| 4.3 控制系统电路设计与实现 | 第41-47页 |
| 4.4 PLC与外围设备连接 | 第47-48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 5 控制系统软件设计 | 第49-76页 |
| 5.1 控制软件总体架构 | 第49-52页 |
| 5.2 硅片传输过程时序设计 | 第52-59页 |
| 5.3 正常逻辑软件设计 | 第59-68页 |
| 5.4 非正常逻辑软件设计 | 第68-74页 |
| 5.5 人机交互界面设计 | 第74-75页 |
| 5.6 本章小结 | 第75-76页 |
| 6 总结与展望 | 第76-78页 |
| 6.1 全文总结 | 第76页 |
| 6.2 研究展望 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-82页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间申请的专利目录 | 第82页 |