| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 引言 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 TiO_2的基本性质 | 第9-12页 |
| 1.1.1 TiO_2的晶体结构 | 第9-11页 |
| 1.1.2 TiO_2的光学性质 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体光催化原理 | 第12-13页 |
| 1.3 提高半导体TiO_2光催化性能的方法 | 第13-17页 |
| 1.3.1 金属离子掺杂 | 第14-15页 |
| 1.3.2 非金属离子掺杂 | 第15-16页 |
| 1.3.3 表面贵金属沉积 | 第16-17页 |
| 1.4 本论文的研究目的与内容 | 第17-19页 |
| 2 薄膜样品的制备与性能的表征 | 第19-28页 |
| 2.1 薄膜样品的制备方法 | 第19-22页 |
| 2.1.1 磁控溅射法基本原理 | 第19-20页 |
| 2.1.2 溶胶-凝胶法基本原理 | 第20页 |
| 2.1.3 实验设备 | 第20-22页 |
| 2.2 薄膜样品的表征方法 | 第22-28页 |
| 2.2.1 电子探针显微分析(EPMA) | 第22-23页 |
| 2.2.2 X射线衍射(XRD)谱仪 | 第23-24页 |
| 2.2.3 稳态/瞬态荧光光谱仪 | 第24-25页 |
| 2.2.4 X射线光电子谱仪(XPS) | 第25-26页 |
| 2.2.5 原子力显微镜(AFM) | 第26-27页 |
| 2.2.6 光催化实验装置 | 第27-28页 |
| 3 Os/N-TiO_2薄膜的制备及表征 | 第28-39页 |
| 3.1 Os/N-TiO_2薄膜的制备方法 | 第28页 |
| 3.2 Os/N-TiO_2薄膜的表征手段 | 第28-29页 |
| 3.2.1 薄膜的表征 | 第28页 |
| 3.2.2 薄膜光催化活性的探究 | 第28-29页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第29-37页 |
| 3.3.1 Os/N-TiO_2薄膜的结构和表面形貌表征 | 第29-33页 |
| 3.3.2 Os/N-TiO_2薄膜的成分表征 | 第33-34页 |
| 3.3.3 Os/N-TiO_2薄膜的光学性能表征 | 第34-36页 |
| 3.3.4 Os/N-TiO_2薄膜光催化性能的表征 | 第36-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-39页 |
| 4 Ag-GO/TiO_2薄膜制备及表征 | 第39-53页 |
| 4.1 Ag-GO/TiO_2薄膜制备 | 第39-40页 |
| 4.1.1 GO/TiO_2薄膜的制备 | 第39-40页 |
| 4.1.2 Ag-GO/TiO_2薄膜的制备 | 第40页 |
| 4.2 Ag-GO/TiO_2薄膜的表征手段 | 第40-41页 |
| 4.2.1 薄膜的表征 | 第40页 |
| 4.2.2 薄膜光催化活性的探究 | 第40-41页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第41-52页 |
| 4.3.1 GO/TiO_2薄膜的结构表征 | 第41-42页 |
| 4.3.2 GO/TiO_2薄膜的成分表征 | 第42-44页 |
| 4.3.3 GO/TiO_2薄膜的表面形貌表征 | 第44-45页 |
| 4.3.4 GO/TiO_2薄膜的光学性能表征 | 第45-47页 |
| 4.3.5 GO/TiO_2薄膜的光催化性能表征 | 第47-49页 |
| 4.3.6 Ag-GO/TiO_2薄膜的光学性能表征 | 第49-50页 |
| 4.3.7 Ag-GO/TiO_2薄膜的表面形貌表征 | 第50-51页 |
| 4.3.8 Ag-GO/TiO_2薄膜的光催化性能表征 | 第51-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
