| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第10-18页 |
| 1.1 课题研究目的和意义 | 第10页 |
| 1.2 微球表面镀膜的目的和意义 | 第10-11页 |
| 1.2.1 颗粒表面镀膜的用途 | 第10-11页 |
| 1.2.2 金属涂层的种类 | 第11页 |
| 1.3 微颗粒表面镀膜的方法 | 第11-14页 |
| 1.3.1 化学方法 | 第11-12页 |
| 1.3.2 物理方法 | 第12页 |
| 1.3.3 磁控溅射方法 | 第12-14页 |
| 1.4 微颗粒表面镀膜的研究现状 | 第14-18页 |
| 第二章 涂层的制备及表征方法 | 第18-23页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 涂层的制备设备、衬底清洗与操作步骤 | 第18-20页 |
| 2.2.1 设备简介 | 第18-19页 |
| 2.2.2 衬底的清洗 | 第19页 |
| 2.2.3 实验操作步骤 | 第19-20页 |
| 2.3 涂层样品的表征手段 | 第20-22页 |
| 2.3.1 薄膜厚度的测量 | 第20页 |
| 2.3.2 白光干涉仪测试 | 第20页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜测试 | 第20-21页 |
| 2.3.4 原子力显微镜(AFM)测试 | 第21页 |
| 2.3.5 X射线衍射(XRD)测试 | 第21页 |
| 2.3.6 应力测试仪测试 | 第21-22页 |
| 2.4 本章小节 | 第22-23页 |
| 第三章 工艺参数对硅片上铝涂层的结构和性能的影响 | 第23-33页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 工作气压系列样品的制备与表征 | 第23-27页 |
| 3.2.1 工作气压系列样品的制备与测试 | 第23-24页 |
| 3.2.2 涂层样品的沉积速率分析 | 第24-25页 |
| 3.2.3 薄膜样品的表面粗糙度分析 | 第25-26页 |
| 3.2.4 薄膜样品的XRD分析 | 第26-27页 |
| 3.3 靶间距系列样品的制备与表征 | 第27-31页 |
| 3.3.1 靶间距系列样品的制备 | 第27-28页 |
| 3.3.2 涂层样品的厚度均匀性和沉积速率分析 | 第28-29页 |
| 3.3.3 涂层样品的表面粗糙度分析 | 第29-30页 |
| 3.3.4 涂层样品的XRD分析 | 第30-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-33页 |
| 第四章 空心微球上铝涂层的制备与分析 | 第33-53页 |
| 4.1 引言 | 第33-35页 |
| 4.2 微球表面涂覆铝涂层的装置 | 第35页 |
| 4.3 托盘转速对微球铝涂层的影响 | 第35-41页 |
| 4.3.1 转速系列样品的制备 | 第35-36页 |
| 4.3.2 转速对涂层厚度均匀性的影响 | 第36-38页 |
| 4.3.3 转速对涂层粗糙度的影响 | 第38-40页 |
| 4.3.4 涂层样品的原子力测试结果 | 第40页 |
| 4.3.5 小结 | 第40-41页 |
| 4.4 大密度微球的引入对微球铝涂层的影响 | 第41-42页 |
| 4.5 敲击间隔对微球铝涂层的影响 | 第42-52页 |
| 4.5.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.5.2 敲击间隔系列样品的制备 | 第43页 |
| 4.5.3 敲击间隔对涂层厚度均匀性的影响 | 第43-44页 |
| 4.5.4 敲击间隔对涂层表面形貌和生长结构的影响 | 第44-47页 |
| 4.5.5 敲击间隔对涂层表面粗糙度的影响 | 第47-49页 |
| 4.5.6 敲击间隔系列涂层的XRD测试结果 | 第49-52页 |
| 4.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 微球表面溅射多层Al-W涂层的探索 | 第53-66页 |
| 5.1 引言 | 第53页 |
| 5.2 Al-W多层实验样品的制备 | 第53-54页 |
| 5.3 多层涂层的厚度与沉积速率 | 第54-55页 |
| 5.4 多层涂层的表面形貌图与剖面结构 | 第55-60页 |
| 5.5 多层涂层的表面粗糙度结果与分析 | 第60-62页 |
| 5.6 多层涂层的XRD图谱分析 | 第62-64页 |
| 5.7 多层涂层的应力测试 | 第64-65页 |
| 5.8 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 结论与展望 | 第66-69页 |
| 6.1 主要结论 | 第66-67页 |
| 6.2 展望 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-78页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第78页 |