| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 ITO薄膜概述 | 第11-14页 |
| 1.3 掺氢ITO薄膜概述 | 第14页 |
| 1.4 ITO薄膜的退火处理 | 第14-15页 |
| 1.5 ITO薄膜的制备方法 | 第15-16页 |
| 1.6 本课题的研究意义及内容 | 第16-18页 |
| 第2章 实验方法 | 第18-24页 |
| 2.1 实验仪器与实验材料 | 第18页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第18-20页 |
| 2.2.1 靶材的准备 | 第18-19页 |
| 2.2.2 衬底的预处理 | 第19页 |
| 2.2.3 薄膜的沉积 | 第19-20页 |
| 2.3 薄膜的表征 | 第20-24页 |
| 2.3.1 薄膜晶体结构的表征 | 第20-21页 |
| 2.3.2 薄膜厚度的表征 | 第21页 |
| 2.3.3 薄膜电学性能的表征 | 第21-22页 |
| 2.3.4 薄膜光学性能的表征 | 第22-24页 |
| 第3章 衬底温度和膜厚对ITO薄膜结构与透明导电性能的影响 | 第24-37页 |
| 3.1 衬底温度和膜厚对ITO薄膜结构的影响 | 第24-29页 |
| 3.1.1 衬底温度和溅射时间对薄膜厚度的影响 | 第24-26页 |
| 3.1.2 衬底温度对薄膜晶体结构的影响 | 第26-27页 |
| 3.1.3 膜厚对薄膜晶体结构的影响 | 第27-29页 |
| 3.2 衬底温度和膜厚对ITO薄膜电学性能的影响 | 第29-31页 |
| 3.2.1 衬底温度对薄膜电学性能的影响 | 第29-30页 |
| 3.2.2 膜厚对薄膜电学性能的影响 | 第30-31页 |
| 3.3 衬底温度和膜厚对ITO薄膜光学性能的影响 | 第31-35页 |
| 3.3.1 衬底温度对薄膜光学性能的影响 | 第31-33页 |
| 3.3.2 膜厚对薄膜光学性能的影响 | 第33-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 H_2流量对ITO薄膜结构与透明导电性能的影响 | 第37-50页 |
| 4.1 H_2流量和膜厚对ITO薄膜结构的影响 | 第37-41页 |
| 4.1.1 H_2流量对ITO薄膜晶体结构的影响 | 第37-40页 |
| 4.1.2 膜厚对ITO:H薄膜晶体结构的影响 | 第40-41页 |
| 4.2 H_2流量和膜厚对ITO薄膜电学性能的影响 | 第41-44页 |
| 4.2.1 H_2流量对ITO薄膜电学性能的影响 | 第41-43页 |
| 4.2.2 膜厚对ITO:H薄膜电学性能的影响 | 第43-44页 |
| 4.3 H_2流量和膜厚对ITO薄膜光学性能的影响 | 第44-48页 |
| 4.3.1 H_2流量对ITO薄膜光学性能的影响 | 第44-46页 |
| 4.3.2 膜厚对ITO:H薄膜光学性能的影响 | 第46-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 热处理对ITO薄膜结构与透明导电性能的影响 | 第50-70页 |
| 5.1 热处理对ITO薄膜结构的影响 | 第50-56页 |
| 5.1.1 Ar气氛下热处理对ITO薄膜结构的影响 | 第50-52页 |
| 5.1.2 空气气氛下热处理对ITO薄膜结构的影响 | 第52-55页 |
| 5.1.3 空气气氛下热处理对不透明ITO薄膜结构的影响 | 第55-56页 |
| 5.2 热处理对ITO薄膜电学性能的影响 | 第56-61页 |
| 5.2.1 Ar气氛下热处理对ITO薄膜电学性能的影响 | 第56-58页 |
| 5.2.2 空气气氛下热处理对ITO薄膜电学性能的影响 | 第58-60页 |
| 5.2.3 空气气氛下热处理对不透明ITO薄膜电学性能的影响 | 第60-61页 |
| 5.3 热处理对ITO薄膜光学性能的影响 | 第61-68页 |
| 5.3.1 Ar气氛下热处理对ITO薄膜光学性能的影响 | 第61-64页 |
| 5.3.2 空气气氛下热处理对ITO薄膜光学性能的影响 | 第64-66页 |
| 5.3.3 空气气氛下热处理对不透明ITO薄膜光学性能的影响 | 第66-68页 |
| 5.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第6章 全文总结 | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第79页 |
