纳米ZnO的制备及湿法刻蚀对纳米ZnO光学性质的影响
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 1 绪论 | 第7-15页 |
| 1.1 ZnO材料的结构及性质 | 第7-9页 |
| 1.1.1 ZnO的基本性质 | 第7-8页 |
| 1.1.2 ZnO光电特性 | 第8-9页 |
| 1.2 ZnO纳米材料及器件研究发展 | 第9-15页 |
| 2 ZnO纳米材料的生长方法及表征技术 | 第15-21页 |
| 2.1 ZnO纳米材料的生长方法 | 第15-17页 |
| 2.1.1 溅射法 | 第15-16页 |
| 2.1.2 金属有机化学气相沉积技术 | 第16页 |
| 2.1.3 分子束外延技术 | 第16页 |
| 2.1.4 喷雾热解法 | 第16-17页 |
| 2.1.5 水热法 | 第17页 |
| 2.2 ZnO纳米材料的表征技术 | 第17-21页 |
| 2.2.1 X射线衍射 | 第17-18页 |
| 2.2.2 光致发光测试 | 第18-19页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第19-20页 |
| 2.2.4 透射电子显微镜 | 第20-21页 |
| 3 ZnO纳米结构的制备 | 第21-31页 |
| 3.1 ZnO纳米结构的制备过程 | 第21-24页 |
| 3.2 溶液浓度和衬底类型对ZnO纳米结构的影响 | 第24-30页 |
| 3.3 小结 | 第30-31页 |
| 4 刻蚀技术对ZnO纳米阵列光学性质的影响 | 第31-48页 |
| 4.1 ZnO纳米阵列的制备 | 第31-34页 |
| 4.2 NH4CL水溶液对ZnO纳米阵列的刻蚀 | 第34-41页 |
| 4.3 刻蚀对ZnO纳米阵列光输出的影响 | 第41-47页 |
| 4.4 小结 | 第47-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52页 |
