| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 研究意义 | 第8-9页 |
| 1.2 Mg_2Si的基本性质 | 第9-14页 |
| 1.2.1 Mg-Si体系相图 | 第10-11页 |
| 1.2.2 Mg_2Si的光学、电学性质 | 第11-14页 |
| 1.3 Mg_2Si材料的制备与应用 | 第14-16页 |
| 1.3.1 Mg_2Si材料的制备 | 第14-15页 |
| 1.3.2 Mg_2Si材料的应用 | 第15-16页 |
| 1.4 Mg_2Si掺杂的研究现状 | 第16-18页 |
| 1.4.1 Mg_2Si掺杂的理论研究 | 第16-17页 |
| 1.4.2 Mg_2Si掺杂的实验研究 | 第17-18页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 样品的制备与表征方法 | 第19-28页 |
| 2.1 实验原料的选择和处理 | 第19页 |
| 2.2 样品的制备仪器 | 第19-22页 |
| 2.2.1 真空镀膜机 | 第19-20页 |
| 2.2.2 高真空退火炉 | 第20-21页 |
| 2.2.3 冷却循环水系统 | 第21-22页 |
| 2.3 样品的结构与形貌表征 | 第22-25页 |
| 2.3.1 X射线衍射 | 第22-24页 |
| 2.3.2 原子力显微镜 | 第24页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜 | 第24-25页 |
| 2.4 样品的电学和光学性能测量 | 第25-27页 |
| 2.4.1 霍尔效应测试仪 | 第25-26页 |
| 2.4.2 分光光度计 | 第26-27页 |
| 2.5 本章小节 | 第27-28页 |
| 第三章 Mn掺杂Mg_2Si的电子结构及光学性质研究 | 第28-45页 |
| 3.1 理论模型和计算方法 | 第29-32页 |
| 3.1.1 理论模型 | 第29页 |
| 3.1.2 计算方法 | 第29-30页 |
| 3.1.3 光学性质的理论描述 | 第30-32页 |
| 3.2 电子结构 | 第32-38页 |
| 3.2.1 体系优化 | 第32-33页 |
| 3.2.2 能带结构 | 第33页 |
| 3.2.3 电子态密度 | 第33-38页 |
| 3.3 光学性质 | 第38-44页 |
| 3.3.1 复介电函数 | 第38-39页 |
| 3.3.2 吸收谱 | 第39-40页 |
| 3.3.3 反射谱 | 第40-41页 |
| 3.3.4 复折射率 | 第41-43页 |
| 3.3.5 光电导率 | 第43-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 Mn掺杂Mg_2Si薄膜的制备与表征 | 第45-54页 |
| 4.1 样品的制备 | 第45页 |
| 4.2 Mn掺杂对Mg_2Si薄膜晶体结构的影响 | 第45-47页 |
| 4.3 Mn掺杂对Mg_2Si薄膜表面形貌的影响 | 第47-49页 |
| 4.3.1 Mn掺杂Mg_2Si薄膜的AFM图 | 第47-48页 |
| 4.3.2 Mn掺杂Mg_2Si薄膜的SEM图 | 第48-49页 |
| 4.4 Mn掺杂对Mg_2Si薄膜电学和光学的研究 | 第49-52页 |
| 4.4.1 Mn掺杂Mg_2Si薄膜的电学性质 | 第49-51页 |
| 4.4.2 Mn掺杂Mg_2Si薄膜的光学性质 | 第51-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 总结 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 附录 | 第61-62页 |