摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 课题背景及研究的目的 | 第10页 |
1.2 三价铬电沉积厚铬几种典型工艺 | 第10-12页 |
1.3 影响三价铬电沉积的因素及对策 | 第12-17页 |
1.3.1 三价铬电沉积的阴极特点 | 第12-13页 |
1.3.2 影响三价铬电沉积的主要因素及对策 | 第13-17页 |
1.4 三价铬还原和配位行为研究 | 第17页 |
1.5 本论文主要的研究内容 | 第17-19页 |
第2章 试验材料及测试方法 | 第19-23页 |
2.1 实验药品及仪器 | 第19-20页 |
2.1.1 实验药品 | 第19页 |
2.1.2 实验仪器 | 第19-20页 |
2.2 镀液性能检测方法 | 第20-21页 |
2.2.1 赫尔槽实验 | 第20页 |
2.2.2 小槽试验 | 第20页 |
2.2.3 镀液稳定性检测 | 第20页 |
2.2.4 铬(Ⅲ)配位的分光光度测试 | 第20-21页 |
2.2.5 溶液电化学性能测试 | 第21页 |
2.3 镀层性能测试 | 第21-23页 |
2.3.1 镀层厚度和沉积速率测试 | 第21页 |
2.3.2 镀层粗糙度检测 | 第21页 |
2.3.3 镀层微观形貌检测 | 第21页 |
2.3.4 镀层 XRD 检测 | 第21-22页 |
2.3.5 镀层硬度检测 | 第22页 |
2.3.6 镀层热处理测试 | 第22-23页 |
第3章 硫酸盐三价铬镀厚铬工艺分析 | 第23-39页 |
3.1 硫酸铬浓度的确定 | 第23-30页 |
3.1.1 硫酸铬浓度为 150 g/L 时镀液体系 | 第23-26页 |
3.1.2 硫酸铬浓度为 112.5 g/L 时镀液体系 | 第26-27页 |
3.1.3 硫酸铬浓度为 96 g/L 时镀液体系 | 第27-28页 |
3.1.4 硫酸铬浓度为 90 g/L 时镀液体系 | 第28-29页 |
3.1.5 硫酸铬浓度为 84 g/L 时镀液体系 | 第29-30页 |
3.2 镀液成分及工艺条件的影响 | 第30-34页 |
3.2.1 甲酸铵浓度的影响 | 第30-31页 |
3.2.2 羧酸 I 浓度的影响 | 第31-32页 |
3.2.3 pH 的影响 | 第32页 |
3.2.4 温度的影响 | 第32-33页 |
3.2.5 电流密度的影响 | 第33-34页 |
3.3 电镀工艺条件对镀层粗糙度的影响 | 第34-37页 |
3.3.1 甲酸铵浓度对镀层粗糙度的影响 | 第34页 |
3.3.2 羧酸 I 浓度对镀层粗糙度的影响 | 第34-35页 |
3.3.3 pH 值对镀层粗糙度的影响 | 第35-36页 |
3.3.4 镀液温度对镀层粗糙度的影响 | 第36页 |
3.3.5 电流密度对镀层粗糙度的影响 | 第36-37页 |
3.3.6 基体初始粗糙度对镀层粗糙度的影响 | 第37页 |
3.4 本章小结 | 第37-39页 |
第4章 甲酸钠体系及复合缓冲剂的研究 | 第39-56页 |
4.1 镀液组分的影响 | 第39-43页 |
4.1.1 甲酸钠浓度的影响 | 第39-40页 |
4.1.2 羧酸 I 浓度的影响 | 第40-42页 |
4.1.3 硫酸铵浓度的影响 | 第42-43页 |
4.2 工艺条件的影响 | 第43-45页 |
4.2.1 pH 的影响 | 第43-44页 |
4.2.2 温度的影响 | 第44页 |
4.2.3 电流密度的影响 | 第44-45页 |
4.2.4 电沉积时间的影响 | 第45页 |
4.3 甲酸铵和甲酸钠体系中工艺条件影响的对比 | 第45-47页 |
4.3.1 pH 的影响对比 | 第46页 |
4.3.2 镀液温度的影响对比 | 第46-47页 |
4.3.3 电流密度的影响对比 | 第47页 |
4.4 复合缓冲剂的研究 | 第47-53页 |
4.4.1 新镀液正交实验 | 第48-49页 |
4.4.2 甲酸钠浓度的影响 | 第49-50页 |
4.4.3 SS 浓度的影响 | 第50-51页 |
4.4.4 不同比例复合缓冲剂的影响 | 第51-53页 |
4.5 镀层微观形貌和 XRD 检测 | 第53-55页 |
4.6 本章小结 | 第55-56页 |
第5章 配位形式及阴极过程的分析 | 第56-72页 |
5.1 三价铬与配位剂配位形式研究 | 第56-62页 |
5.1.1 三价铬与甲酸铵配位形式研究 | 第56-57页 |
5.1.2 三价铬与甲酸钠配位形式研究 | 第57-58页 |
5.1.3 三价铬与羧酸 I 配位形式研究 | 第58-59页 |
5.1.4 三价铬与尿素的配位形式研究 | 第59页 |
5.1.5 三价铬与 SS 配位形式研究 | 第59-60页 |
5.1.6 pH 和温度对配合物吸光度的影响 | 第60-61页 |
5.1.7 陈化时间对配位状况的影响 | 第61-62页 |
5.2 配合物的几何结构 | 第62-66页 |
5.2.1 Cr~(3+)与配位剂的结构优化 | 第62-65页 |
5.2.2 铵离子在硫酸盐体系中的作用 | 第65-66页 |
5.3 配位剂浓度对阴极极化曲线的影响 | 第66-67页 |
5.3.1 甲酸铵浓度对阴极极化曲线的影响 | 第66页 |
5.3.2 甲酸钠浓度对阴极极化曲线的影响 | 第66-67页 |
5.3.3 羧酸 I 浓度对阴极极化曲线的影响 | 第67页 |
5.4 循环伏安曲线 | 第67-68页 |
5.5 电化学阻抗谱 | 第68-71页 |
5.6 本章小结 | 第71-72页 |
结论 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-80页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第80-82页 |
致谢 | 第82页 |