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光学曲面在位测量关键技术研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第11-27页
    1.1 课题概述第11-12页
        1.1.1 课题来源第11页
        1.1.2 研究背景与意义第11-12页
    1.2 光学曲面测量技术发展现状第12-20页
    1.3 曲线曲面重构技术研究现状第20-26页
    1.4 本文主要研究内容第26-27页
第2章 光学曲面在位测量系统开发第27-43页
    2.1 引言第27页
    2.2 接触式在位测量原理第27-29页
    2.3 在位测量系统平台搭建第29-35页
        2.3.1 超精密气浮直线导轨第30-31页
        2.3.2 超精密空气轴承旋转台第31页
        2.3.3 SP150 电主轴第31-32页
        2.3.4 气动伺服抛光工具系统第32-33页
        2.3.5 精密光学三维调整架第33-34页
        2.3.6 LM50 激光干涉仪第34-35页
    2.4 在位测量系统软件开发第35-41页
        2.4.1 控制系统总体方案规划第36-37页
        2.4.2 A3200 运动控制器第37-38页
        2.4.3 LM50 激光干涉仪运动控制第38-40页
        2.4.4 在位测量控制软件开发第40-41页
    2.5 本章小结第41-43页
第3章 在位测量系统的误差分析与标定第43-59页
    3.1 引言第43页
    3.2 测量系统的误差分类第43-44页
    3.3 在位测量系统误差分析与标定第44-53页
        3.3.1 测头垂直校正误差第45-46页
        3.3.2 基地顶点对心误差第46-47页
        3.3.3 测头曲率半径误差第47-48页
        3.3.4 气浮平台定位误差第48-51页
        3.3.5 气浮平台直线度误差第51-53页
    3.4 在位测量随机误差分析与标定第53-57页
        3.4.1 LM50 单点重复测量误差第53-55页
        3.4.2 气浮平台重复定位误差第55-57页
    3.5 本章小结第57-59页
第4章 曲线曲面重构算法研究第59-77页
    4.1 引言第59页
    4.2 EIV 模型第59-60页
    4.3 移动最小二乘法第60-61页
    4.4 移动总体最小二乘法第61-63页
    4.5 适应性移动总体最小二乘法第63-69页
        4.5.1 振荡曲线 AMTLS 拟合第65-67页
        4.5.2 非球面母线 AMTLS 拟合第67-68页
        4.5.3 柱面廓线 AMTLS 拟合第68-69页
    4.6 改进的移动最小二乘法第69-74页
        4.6.1 振荡曲线 IMLS 拟合第70-71页
        4.6.2 非球面母线 IMLS 拟合第71-72页
        4.6.3 曲面 IMLS 拟合第72-74页
    4.7 支持域半径的选择第74-76页
    4.8 本章小结第76-77页
第5章 光学曲面在位测量实验研究第77-99页
    5.1 引言第77页
    5.2 测量轨迹规划第77-81页
        5.2.1 线测量轨迹规划第78-79页
        5.2.2 面测量轨迹规划第79-81页
    5.3 球面母线在位测量第81-90页
        5.3.1 测头垂直校正第81-84页
        5.3.2 基地顶点对心第84-85页
        5.3.3 球面母线测量第85-90页
    5.4 离轴三反镜面在位测量第90-96页
        5.4.1 测头对心第90-91页
        5.4.2 三反镜面放射型测量第91-93页
        5.4.3 三反镜面均匀布点测量第93-96页
    5.5 本章小结第96-99页
第6章 结论第99-101页
参考文献第101-111页
攻读博士学位期间发表和撰写的学术论文第111-113页
攻读博士学位期间参与的主要科研项目第113-115页
致谢第115-116页

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