单晶硅表面减反射微结构的制备和表征
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第7-11页 |
| 1.1 研究意义和背景 | 第7-8页 |
| 1.2 本论文结构 | 第8-9页 |
| 1.3 主要研究内容 | 第9-11页 |
| 第2章 文献综述 | 第11-18页 |
| 2.1 太阳电池发展简介 | 第11-15页 |
| 2.1.1 太阳电池发展背景 | 第11-13页 |
| 2.1.2 太阳光谱简介 | 第13-14页 |
| 2.1.3 太阳电池发展历程 | 第14-15页 |
| 2.2 单晶硅太阳电池制绒简介 | 第15-18页 |
| 第3章 实验材料和方法 | 第18-21页 |
| 3.1 单晶硅绒面化学方法制备机理 | 第18页 |
| 3.2 实验总体方案 | 第18-20页 |
| 3.2.1 单晶硅绒面制备条件优化 | 第19页 |
| 3.2.2 单晶硅金字塔微结构制备 | 第19-20页 |
| 3.3 主要实验原料和实验设备 | 第20-21页 |
| 3.3.1 主要实验原料 | 第20页 |
| 3.3.2 主要实验设备 | 第20-21页 |
| 第4章 单晶硅绒面制备条件优化 | 第21-41页 |
| 4.1 引言 | 第21-22页 |
| 4.2 金字塔绒面制备方法 | 第22-23页 |
| 4.3 实验设计方案 | 第23-24页 |
| 4.4 金字塔绒面的基本性质 | 第24-39页 |
| 4.4.1 磷酸钾浓度对制绒的影响 | 第24-30页 |
| 4.4.2 反应温度对制绒的影响 | 第30-34页 |
| 4.4.3 硅酸钾浓度对制绒的影响 | 第34-35页 |
| 4.4.4 反应时间对制绒的影响 | 第35-39页 |
| 4.5 本章小结 | 第39-41页 |
| 第5章 单晶硅表面金字塔微结构制备 | 第41-54页 |
| 5.1 引言 | 第41页 |
| 5.2 金字塔微结构制备方法 | 第41-42页 |
| 5.3 金字塔微结构及反射率最佳制备条件探讨 | 第42-53页 |
| 5.3.1 金字塔微结构及反射率最佳制绒时间 | 第43-47页 |
| 5.3.2 金字塔微结构及反射率最佳制绒浓度 | 第47-51页 |
| 5.3.3 金字塔微结构及反射率最佳制绒温度 | 第51-53页 |
| 5.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第6章 结论与展望 | 第54-57页 |
| 6.1 结论 | 第54-55页 |
| 6.2 展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文情况 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
