扫描干涉场曝光系统干涉条纹测量与调整方法研究
摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第12-22页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第12-13页 |
1.2 相关领域的研究现状 | 第13-20页 |
1.2.1 单次曝光法 | 第13-14页 |
1.2.2 曝光拼接法 | 第14-16页 |
1.2.3 扫描曝光法 | 第16-20页 |
1.3 主要研究内容和结构安排 | 第20-22页 |
1.3.1 论文主要内容 | 第20页 |
1.3.2 论文结构安排 | 第20-22页 |
第2章 扫描干涉场曝光系统简介 | 第22-38页 |
2.1 引言 | 第22页 |
2.2 系统简介 | 第22-25页 |
2.2.1 系统工作原理 | 第22-24页 |
2.2.2 系统概况 | 第24-25页 |
2.3 系统光学布局 | 第25-34页 |
2.3.1 光学元件 | 第25-30页 |
2.3.2 系统光学透镜布局 | 第30-34页 |
2.4 系统工作模式 | 第34-37页 |
2.4.1 光栅模式 | 第34-35页 |
2.4.2 分束模式 | 第35-36页 |
2.4.3 曝光模式 | 第36-37页 |
2.5 本章小结 | 第37-38页 |
第3章 干涉条纹方向调整 | 第38-54页 |
3.1 引言 | 第38页 |
3.2 干涉条纹方向对扫描曝光的影响 | 第38-41页 |
3.3 干涉条纹方向调整的基本原理 | 第41-48页 |
3.3.1 基准光栅刻线方向的调整 | 第42-44页 |
3.3.2 干涉条纹方向的调整 | 第44-48页 |
3.4 实验结果 | 第48-52页 |
3.5 本章小结 | 第52-54页 |
第4章 干涉条纹相位非线性误差的测量及调整 | 第54-74页 |
4.1 引言 | 第54页 |
4.2 透镜调节误差与干涉条纹相位非线性误差 | 第54-60页 |
4.3 干涉条纹相位非线性误差对扫描曝光的影响 | 第60-64页 |
4.4 干涉条纹相位非线性误差测量及调整 | 第64-69页 |
4.4.1 光栅模式下的相位非线性误差测量及调整 | 第65-66页 |
4.4.2 相移干涉术还原相位非线性误差 | 第66-69页 |
4.5 实验结果 | 第69-72页 |
4.6 本章小结 | 第72-74页 |
第5章 干涉条纹周期测量误差对扫描曝光的影响 | 第74-104页 |
5.1 引言 | 第74-75页 |
5.2 扫描曝光理论模型 | 第75-81页 |
5.3 周期测量误差对光栅掩模槽形的影响 | 第81-93页 |
5.3.1 光刻胶感光及显影模型 | 第81-82页 |
5.3.2 周期测量误差对曝光对比度的影响 | 第82-86页 |
5.3.3 周期测量误差对槽形的影响 | 第86-90页 |
5.3.4 实验验证 | 第90-93页 |
5.4 干涉条纹周期测量误差对扫描曝光相位的影响 | 第93-102页 |
5.4.1 周期测量误差对曝光光栅周期的影响 | 第93-96页 |
5.4.2 周期测量误差对曝光刻线误差的影响 | 第96-98页 |
5.4.3 实验验证 | 第98-102页 |
5.5 本章小结 | 第102-104页 |
第6章 干涉条纹周期精确测量 | 第104-136页 |
6.1 引言 | 第104页 |
6.2 干涉条纹周期测量方法的理论分析 | 第104-114页 |
6.3 周期计数法及周期测量方法 | 第114-124页 |
6.3.1 周期计数法 | 第114-120页 |
6.3.2 小行程位移台辅助周期测量方法 | 第120-122页 |
6.3.3 实验验证 | 第122-124页 |
6.4 傅里叶变换法及周期测量 | 第124-133页 |
6.4.1 傅里叶变换的理论分析 | 第124-127页 |
6.4.2 离散傅里叶变换 | 第127-131页 |
6.4.3 实验验证 | 第131-133页 |
6.5 扫描曝光光栅的制作 | 第133-134页 |
6.6 本章小结 | 第134-136页 |
第7章 总结与展望 | 第136-140页 |
7.1 论文工作总结 | 第136-137页 |
7.2 展望 | 第137-140页 |
参考文献 | 第140-148页 |
在学期间学术成果情况 | 第148-149页 |
指导教师及作者简介 | 第149-150页 |
致谢 | 第150-151页 |