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扫描干涉场曝光系统干涉条纹测量与调整方法研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-22页
    1.1 课题研究背景及意义第12-13页
    1.2 相关领域的研究现状第13-20页
        1.2.1 单次曝光法第13-14页
        1.2.2 曝光拼接法第14-16页
        1.2.3 扫描曝光法第16-20页
    1.3 主要研究内容和结构安排第20-22页
        1.3.1 论文主要内容第20页
        1.3.2 论文结构安排第20-22页
第2章 扫描干涉场曝光系统简介第22-38页
    2.1 引言第22页
    2.2 系统简介第22-25页
        2.2.1 系统工作原理第22-24页
        2.2.2 系统概况第24-25页
    2.3 系统光学布局第25-34页
        2.3.1 光学元件第25-30页
        2.3.2 系统光学透镜布局第30-34页
    2.4 系统工作模式第34-37页
        2.4.1 光栅模式第34-35页
        2.4.2 分束模式第35-36页
        2.4.3 曝光模式第36-37页
    2.5 本章小结第37-38页
第3章 干涉条纹方向调整第38-54页
    3.1 引言第38页
    3.2 干涉条纹方向对扫描曝光的影响第38-41页
    3.3 干涉条纹方向调整的基本原理第41-48页
        3.3.1 基准光栅刻线方向的调整第42-44页
        3.3.2 干涉条纹方向的调整第44-48页
    3.4 实验结果第48-52页
    3.5 本章小结第52-54页
第4章 干涉条纹相位非线性误差的测量及调整第54-74页
    4.1 引言第54页
    4.2 透镜调节误差与干涉条纹相位非线性误差第54-60页
    4.3 干涉条纹相位非线性误差对扫描曝光的影响第60-64页
    4.4 干涉条纹相位非线性误差测量及调整第64-69页
        4.4.1 光栅模式下的相位非线性误差测量及调整第65-66页
        4.4.2 相移干涉术还原相位非线性误差第66-69页
    4.5 实验结果第69-72页
    4.6 本章小结第72-74页
第5章 干涉条纹周期测量误差对扫描曝光的影响第74-104页
    5.1 引言第74-75页
    5.2 扫描曝光理论模型第75-81页
    5.3 周期测量误差对光栅掩模槽形的影响第81-93页
        5.3.1 光刻胶感光及显影模型第81-82页
        5.3.2 周期测量误差对曝光对比度的影响第82-86页
        5.3.3 周期测量误差对槽形的影响第86-90页
        5.3.4 实验验证第90-93页
    5.4 干涉条纹周期测量误差对扫描曝光相位的影响第93-102页
        5.4.1 周期测量误差对曝光光栅周期的影响第93-96页
        5.4.2 周期测量误差对曝光刻线误差的影响第96-98页
        5.4.3 实验验证第98-102页
    5.5 本章小结第102-104页
第6章 干涉条纹周期精确测量第104-136页
    6.1 引言第104页
    6.2 干涉条纹周期测量方法的理论分析第104-114页
    6.3 周期计数法及周期测量方法第114-124页
        6.3.1 周期计数法第114-120页
        6.3.2 小行程位移台辅助周期测量方法第120-122页
        6.3.3 实验验证第122-124页
    6.4 傅里叶变换法及周期测量第124-133页
        6.4.1 傅里叶变换的理论分析第124-127页
        6.4.2 离散傅里叶变换第127-131页
        6.4.3 实验验证第131-133页
    6.5 扫描曝光光栅的制作第133-134页
    6.6 本章小结第134-136页
第7章 总结与展望第136-140页
    7.1 论文工作总结第136-137页
    7.2 展望第137-140页
参考文献第140-148页
在学期间学术成果情况第148-149页
指导教师及作者简介第149-150页
致谢第150-151页

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