| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 前言 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10-12页 |
| 1.1.1 铀的基本性质 | 第10-11页 |
| 1.1.2 铀的开发与应用 | 第11页 |
| 1.1.3 放射性含铀废水的来源、危害及特点 | 第11-12页 |
| 1.2 含铀废水的处理传统方法 | 第12-13页 |
| 1.2.1 蒸发浓缩法 | 第12页 |
| 1.2.2 化学沉淀法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 离子交换法 | 第13页 |
| 1.2.4 吸附法 | 第13页 |
| 1.3 光催化技术 | 第13-16页 |
| 1.3.1 光催化作用机理 | 第14-15页 |
| 1.3.2 光催化技术的应用 | 第15-16页 |
| 1.4 石墨相氮化碳的研究进展 | 第16-19页 |
| 1.4.1 氮化碳的简介 | 第16-17页 |
| 1.4.2 制备方法 | 第17-19页 |
| 1.5 提高g-C_3N_4光催化活性的途径 | 第19-24页 |
| 1.5.1 贵金属沉积 | 第19-20页 |
| 1.5.2 掺杂 | 第20-22页 |
| 1.5.3 与其他半导体复合 | 第22-24页 |
| 1.5.4 染料光敏化 | 第24页 |
| 1.6 论文研究的意义 | 第24页 |
| 1.7 论文的研究内容与创新点 | 第24-26页 |
| 第二章 硫掺杂的石墨烯类型C_3N_4在可见光下光催化还原UO_2~(2+)的性能研究 | 第26-43页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第27-28页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第27页 |
| 2.1.2 实验仪器设备 | 第27-28页 |
| 2.2 实验过程 | 第28-30页 |
| 2.2.1 光催化剂的制备 | 第28-29页 |
| 2.2.2 催化剂的表征及测量 | 第29-30页 |
| 2.2.3 光催化还原UO_2~(2+)试验 | 第30页 |
| 2.2.4 DFT计算 | 第30页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第30-41页 |
| 2.3.1 SC_3N_4样品的形态和组成 | 第30-33页 |
| 2.3.2 SC_3N_4的电子结构 | 第33-35页 |
| 2.3.3 光催化性能的研究 | 第35-40页 |
| 2.3.4 SC_3N_4对UO_2~(2+)的光催化还原机理 | 第40-41页 |
| 2.4 结论 | 第41-43页 |
| 第三章 磷掺杂g-C_3N_4在可见光照射下光催化还原UO_2~(2+)的性能研究 | 第43-59页 |
| 3.1 实验试剂与仪器 | 第44-45页 |
| 3.1.1 实验试剂 | 第44页 |
| 3.1.2 实验仪器设备 | 第44-45页 |
| 3.2 实验过程 | 第45-47页 |
| 3.2.1 光催化剂的制备 | 第45页 |
| 3.2.2 催化剂的表征 | 第45-46页 |
| 3.2.3 光催化还原UO_2~(2+)实验 | 第46页 |
| 3.2.4 光电化学的测量 | 第46-47页 |
| 3.2.5 DFT计算 | 第47页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第47-58页 |
| 3.3.1 样品的形态及化学组成 | 第47-50页 |
| 3.3.2 PC_3N_4的光电性能和电子结构 | 第50-54页 |
| 3.3.3 光催化性能的研究 | 第54-57页 |
| 3.3.4 可能的光催化还原机理 | 第57-58页 |
| 3.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 结论与展望 | 第59-61页 |
| 4.1 结论 | 第59页 |
| 4.2 展望 | 第59-61页 |
| 附录：硕士期间取得的研究成果 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
