金属基底的碳纳米管制备及其性能测试
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 碳纳米管的简介 | 第7-9页 |
| 1.1.1 碳纳米管的结构及性能 | 第7-8页 |
| 1.1.2 碳纳米管的制备方法 | 第8-9页 |
| 1.1.3 碳纳米管的生长机制和生长机理 | 第9页 |
| 1.2 金属基底生长碳纳米管的必要性 | 第9-11页 |
| 1.3 本论文的研究内容及主要意义 | 第11-13页 |
| 第二章 实验过程及样品表征 | 第13-21页 |
| 2.1 实验过程 | 第13-17页 |
| 2.1.1 金属基底的制备 | 第13页 |
| 2.1.2 基底的清洗及保存 | 第13页 |
| 2.1.3 原子层沉积制备过渡层AlN | 第13-14页 |
| 2.1.4 催化剂的制备 | 第14-16页 |
| 2.1.5 CVD制备碳纳米管 | 第16-17页 |
| 2.2 样品表征 | 第17-21页 |
| 2.2.1 样品的结构表征 | 第17-18页 |
| 2.2.2 样品的性能表征 | 第18-21页 |
| 第三章 金属基底制备碳纳米管的前期条件 | 第21-27页 |
| 3.1 在金属基底制备碳纳米管的现状 | 第21-22页 |
| 3.2 过渡层的选择 | 第22页 |
| 3.3 氮化铝薄膜的表面形貌及结构分析 | 第22-26页 |
| 3.3.1 硅衬底的氮化铝薄膜 | 第22-24页 |
| 3.3.2 铜箔衬底的氮化铝薄膜 | 第24-25页 |
| 3.3.3 不锈钢衬底的氮化铝薄膜 | 第25-26页 |
| 3.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第四章 金属基底的碳纳米管制备 | 第27-44页 |
| 4.1 硅基底的碳纳米管制备 | 第27-29页 |
| 4.1.1 实验目的 | 第27页 |
| 4.1.2 碳氢比例对碳纳米管的影响 | 第27-29页 |
| 4.2 催化剂的形貌 | 第29-35页 |
| 4.2.1 催化剂SEM | 第29-31页 |
| 4.2.2 催化剂AFM | 第31-32页 |
| 4.2.3 催化剂XPS | 第32-35页 |
| 4.3 催化剂Ni上生长碳纳米管 | 第35-38页 |
| 4.3.1 铜箔基底生长碳纳米管 | 第35-37页 |
| 4.3.2 不锈钢基底生长碳纳米管 | 第37-38页 |
| 4.4 催化剂Fe上生长碳纳米管 | 第38-41页 |
| 4.4.1 铜箔基底生长碳纳米管 | 第38-39页 |
| 4.4.2 不锈钢基底的碳纳米管生长 | 第39-41页 |
| 4.5 拉曼图谱的对比 | 第41-42页 |
| 4.6 缓冲层的重要性 | 第42-43页 |
| 4.7 本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 金属基底碳纳米管阵列的性能测试 | 第44-50页 |
| 5.1 场发射性能测试 | 第44-46页 |
| 5.2 锂离子电池性能测试 | 第46-50页 |
| 第六章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 6.1 总结 | 第50-51页 |
| 6.2 展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
