摘要 | 第6-9页 |
Abstract | 第9-12页 |
第一章 绪论 | 第16-32页 |
1.1 研究背景 | 第16-19页 |
1.1.1 六方锰酸钇简介 | 第16-19页 |
1.1.2 六方锰酸钇研究目的和意义 | 第19页 |
1.2 薄膜制备技术 | 第19-21页 |
1.2.1 化学方法 | 第19-20页 |
1.2.2 物理方法 | 第20-21页 |
1.3 薄膜材料结构和组分表征技术 | 第21-22页 |
1.3.1 X射线衍射谱 | 第21页 |
1.3.2 X射线光电子谱 | 第21页 |
1.3.3 原子力显微镜 | 第21-22页 |
1.3.4 扫描电子显微镜 | 第22页 |
1.4 薄膜光谱表征技术 | 第22-25页 |
1.4.1 紫外-近红外反射和透射光谱 | 第22-23页 |
1.4.2 椭圆偏振光谱 | 第23-24页 |
1.4.3 拉曼光谱和荧光光谱 | 第24-25页 |
1.4.4 红外光谱 | 第25页 |
1.5 薄膜铁电表征技术 | 第25-26页 |
1.6 硕士期间主要工作 | 第26-27页 |
参考文献 | 第27-32页 |
第二章 YBMFx薄膜的制备及基础表征 | 第32-46页 |
2.1 YBMFx薄膜的制备 | 第32-34页 |
2.1.1 溶胶凝胶法原理 | 第32页 |
2.1.2 YBMFx系列薄膜的制备 | 第32-34页 |
2.2 YBMFx薄膜基础表征 | 第34-43页 |
2.2.1 XRD测试结果分析 | 第34-36页 |
2.2.2 AFM测试结果分析 | 第36-37页 |
2.2.3 SEM测试结果分析 | 第37页 |
2.2.4 EDS图像结果分析 | 第37-38页 |
2.2.5 XPS测试结果分析 | 第38-39页 |
2.2.6 铁电测试结果分析 | 第39-42页 |
2.2.7 I-V测试结果分析 | 第42-43页 |
2.3 本章小结 | 第43-44页 |
参考文献 | 第44-46页 |
第三章 YBMFx薄膜常温光学性质研究 | 第46-62页 |
3.1 常温紫外-近红外反射和透射光谱 | 第46-49页 |
3.2 常温红外反射光谱 | 第49-50页 |
3.3 常温拉曼光谱 | 第50-51页 |
3.4 常温荧光光谱 | 第51-52页 |
3.5 常温椭圆偏振光谱 | 第52-57页 |
3.6 本章小结 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-62页 |
第四章 YBMFx薄膜变温透射及双能隙温度特性研究 | 第62-74页 |
4.1 引言 | 第62页 |
4.2 YBMFx薄膜的变温透射结果分析 | 第62-68页 |
4.2.1 E_(g1)的温度组分依赖性 | 第62-65页 |
4.2.2 E_(g2)的温度组分依赖性 | 第65-67页 |
4.2.3 Katsufuji模型的验证和改进 | 第67-68页 |
4.3 E_(g2)临界温度下异常收缩的原因 | 第68-70页 |
4.3.1 基于复合畴壁钉扎效应和离散氧空位在复合畴壁处累积效应的理论模型解释 | 第68-69页 |
4.3.2 磁学相变实验结果和透射光谱探测磁相变(或弛豫)的优越性 | 第69-70页 |
4.4 本章小结 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-74页 |
第五章 总结与展望 | 第74-78页 |
附录Ⅰ 攻读硕士期间论文 | 第78-80页 |
附录Ⅱ 致谢 | 第80页 |