首页--数理科学和化学论文--物理学论文--固体物理学论文--薄膜物理学论文

铁和铋共掺杂六方锰酸钇薄膜的制备及其光电性质研究

摘要第6-9页
Abstract第9-12页
第一章 绪论第16-32页
    1.1 研究背景第16-19页
        1.1.1 六方锰酸钇简介第16-19页
        1.1.2 六方锰酸钇研究目的和意义第19页
    1.2 薄膜制备技术第19-21页
        1.2.1 化学方法第19-20页
        1.2.2 物理方法第20-21页
    1.3 薄膜材料结构和组分表征技术第21-22页
        1.3.1 X射线衍射谱第21页
        1.3.2 X射线光电子谱第21页
        1.3.3 原子力显微镜第21-22页
        1.3.4 扫描电子显微镜第22页
    1.4 薄膜光谱表征技术第22-25页
        1.4.1 紫外-近红外反射和透射光谱第22-23页
        1.4.2 椭圆偏振光谱第23-24页
        1.4.3 拉曼光谱和荧光光谱第24-25页
        1.4.4 红外光谱第25页
    1.5 薄膜铁电表征技术第25-26页
    1.6 硕士期间主要工作第26-27页
    参考文献第27-32页
第二章 YBMFx薄膜的制备及基础表征第32-46页
    2.1 YBMFx薄膜的制备第32-34页
        2.1.1 溶胶凝胶法原理第32页
        2.1.2 YBMFx系列薄膜的制备第32-34页
    2.2 YBMFx薄膜基础表征第34-43页
        2.2.1 XRD测试结果分析第34-36页
        2.2.2 AFM测试结果分析第36-37页
        2.2.3 SEM测试结果分析第37页
        2.2.4 EDS图像结果分析第37-38页
        2.2.5 XPS测试结果分析第38-39页
        2.2.6 铁电测试结果分析第39-42页
        2.2.7 I-V测试结果分析第42-43页
    2.3 本章小结第43-44页
    参考文献第44-46页
第三章 YBMFx薄膜常温光学性质研究第46-62页
    3.1 常温紫外-近红外反射和透射光谱第46-49页
    3.2 常温红外反射光谱第49-50页
    3.3 常温拉曼光谱第50-51页
    3.4 常温荧光光谱第51-52页
    3.5 常温椭圆偏振光谱第52-57页
    3.6 本章小结第57-58页
    参考文献第58-62页
第四章 YBMFx薄膜变温透射及双能隙温度特性研究第62-74页
    4.1 引言第62页
    4.2 YBMFx薄膜的变温透射结果分析第62-68页
        4.2.1 E_(g1)的温度组分依赖性第62-65页
        4.2.2 E_(g2)的温度组分依赖性第65-67页
        4.2.3 Katsufuji模型的验证和改进第67-68页
    4.3 E_(g2)临界温度下异常收缩的原因第68-70页
        4.3.1 基于复合畴壁钉扎效应和离散氧空位在复合畴壁处累积效应的理论模型解释第68-69页
        4.3.2 磁学相变实验结果和透射光谱探测磁相变(或弛豫)的优越性第69-70页
    4.4 本章小结第70-71页
    参考文献第71-74页
第五章 总结与展望第74-78页
附录Ⅰ 攻读硕士期间论文第78-80页
附录Ⅱ 致谢第80页

论文共80页,点击 下载论文
上一篇:钙钛矿SmNiO3外延薄膜的制备及其金属—绝缘体相变的电场调控研究
下一篇:二维过渡金属硫化物中Rashba自旋轨道耦合效应的第一性原理研究