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单晶硅片制绒及硫化铅薄膜制备研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第10-20页
    1.1 引言第10页
    1.2. 太阳能电池第10-12页
        1.2.1 太阳能电池的发展和应用第10-11页
        1.2.2 晶体硅太阳能电池光电转换效率提高的途径第11-12页
    1.3 单晶硅片制绒的研究第12-15页
        1.3.1 单晶硅片制绒的意义第12-13页
        1.3.2 单晶硅片制绒研究的现状第13-15页
    1.4 PbS半导体材料第15-19页
        1.4.1 PbS的晶体结构和应用第15-16页
        1.4.2 PbS的制备方法第16-18页
        1.4.3 PbS的研究现状第18-19页
    1.5 本论文的研究目的和内容第19-20页
第二章 单晶硅片的碱液制绒研究第20-30页
    2.1 引言第20页
    2.2 实验第20-22页
        2.2.1 单晶硅片的减薄和清洗第21-22页
        2.2.2 单晶硅片的制绒第22页
    2.3 结果与讨论第22-29页
        2.3.1 清洗及减薄对硅片少子寿命的影响第22-24页
        2.3.2 不同添加剂对金字塔绒面结构形貌和反射率的影响第24-29页
    2.4 小结第29-30页
第三章 预退火对单晶硅片制绒的影响第30-40页
    3.1 引言第30页
    3.2 实验第30-31页
        3.2.1 单晶硅片的清洗第31页
        3.2.2 单晶硅片的预退火第31页
        3.2.3 单晶硅片的制绒第31页
    3.3 结果与讨论第31-37页
        3.3.1 预退火温度对金字塔绒面结构形貌和反射率的影响第31-36页
        3.3.2 预退火时间对金字塔绒面结构反射率的影响第36-37页
    3.4 小结第37-40页
第四章 化学浴沉积时间对PbS薄膜特性的影响第40-46页
    4.1 引言第40页
    4.2 实验第40-42页
        4.2.1 衬底清洗第41页
        4.2.2 PbS薄膜沉积第41-42页
    4.3 结果与讨论第42-44页
        4.3.1 化学浴沉积时间对PbS薄膜结构特性的影响第42-43页
        4.3.2 化学浴沉积时间对PbS薄膜光学特性的影响第43-44页
    4.4 小结第44-46页
第五章 铜掺杂浓度对PbS薄膜特性的影响第46-58页
    5.1 引言第46页
    5.2 实验第46-48页
        5.2.1 衬底清洗第47页
        5.2.2 Cu掺杂PbS薄膜的沉积第47-48页
    5.3 结果与讨论第48-55页
        5.3.1 Cu掺杂浓度对PbS薄膜表面形貌的影响第48-49页
        5.3.2 Cu掺杂浓度对PbS薄膜结构特性的影响第49-51页
        5.3.3 Cu掺杂浓度对PbS薄膜光学特性的影响第51-53页
        5.3.4 Cu掺杂浓度对PbS薄膜电学特性的影响第53-55页
    5.4 小结第55-58页
第六章 总结第58-62页
参考文献第62-72页
致谢第72-74页
攻读硕士期间的研究成果第74-75页

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