| 致谢 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-13页 |
| 插图清单 | 第13-15页 |
| 表格清单 | 第15-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-24页 |
| ·红外探测器 | 第16-18页 |
| ·红外探测器的介绍 | 第16页 |
| ·红外探测器的发展 | 第16-17页 |
| ·红外探测器分类 | 第17-18页 |
| ·微测辐射热计的发展 | 第18-19页 |
| ·微测辐射热计用薄膜材料 | 第19-20页 |
| ·微测辐射热计用薄膜材料的介绍 | 第19-20页 |
| ·氧化钒薄膜的介绍 | 第20-21页 |
| ·V_2O_5薄膜的晶体结构及其应用 | 第21-23页 |
| ·V_2O_5薄膜的晶体结构 | 第21-22页 |
| ·V_2O_5薄膜的应用 | 第22-23页 |
| ·本文研究的目的、内容和创新点 | 第23-24页 |
| ·研究目的 | 第23页 |
| ·研究内容 | 第23页 |
| ·本文创新点 | 第23-24页 |
| 第二章 薄膜的制备和表征 | 第24-39页 |
| ·薄膜的形成机理 | 第24-26页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第24-26页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第26-30页 |
| ·真空蒸发镀 | 第26-27页 |
| ·溅射镀膜法 | 第27-28页 |
| ·分子束外延镀膜法 | 第28页 |
| ·离子束沉积镀膜法 | 第28-29页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第29页 |
| ·化学气相沉积 | 第29-30页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第30页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜的原理 | 第30-33页 |
| ·磁控溅射法的原理 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜的操作流程 | 第31-33页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第33-37页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第33-34页 |
| ·方块电阻的测量 | 第34页 |
| ·电阻温度系数的测量 | 第34-35页 |
| ·薄膜近红外吸收性能的测试 | 第35页 |
| ·原子力显微镜 | 第35-37页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第三章 玻璃基片上单层 V2O5薄膜的制备及性能 | 第39-47页 |
| ·氧氩比对 V_2O_5薄膜的影响 | 第39-41页 |
| ·氧氩比对 V_2O_5薄膜组织结构的影响 | 第39-40页 |
| ·氧氩比对 V_2O_5薄膜方块电阻的影响 | 第40-41页 |
| ·氧氩比对 V_2O_5薄膜形貌的影响 | 第41页 |
| ·退火气氛对 V_2O_5薄膜的影响 | 第41-44页 |
| ·退火气氛对 V_2O_5薄膜组织结构的影响 | 第41-42页 |
| ·退火条件对 V_2O_5薄膜方块电阻的影响 | 第42-43页 |
| ·退火气氛对 V_2O_5薄膜形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·薄膜的电学和电学性能的研究 | 第44-46页 |
| ·薄膜电阻温度系数的研究 | 第44-45页 |
| ·薄膜近红外吸收性能的研究 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 V_2O_5/V/V_2O_5三层膜的制备及其性能研究 | 第47-55页 |
| ·微测辐射热计用 V_2O_5/V/V_2O_5三层膜的制备 | 第48-49页 |
| ·V_2O_5/V/V_2O_5三层膜的制备工艺参数 | 第48页 |
| ·溅射时间对薄膜电阻的影响 | 第48-49页 |
| ·V_2O_5/V/V_2O_5薄膜的结构及性能研究 | 第49-53页 |
| ·V_2O_5/V/V_2O_5薄膜的 XRD 图 | 第49-50页 |
| ·V_2O_5/V/V_2O_5薄膜的电阻温度曲线 | 第50-51页 |
| ·V_2O_5/V/V_2O_5及 V_2O_5薄膜红外吸收曲线 | 第51页 |
| ·V_2O_5/V/V_2O_5薄膜的 AFM 图 | 第51-52页 |
| ·V_2O_5/V/V_2O_5三层膜的 SEM 图 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 V_2O_5单层膜与 V_2O_5/V/V_2O_5三层膜结构和性能比较 | 第55-60页 |
| ·V_2O_5/V/V_2O_5及 V_2O_5薄膜组织性能的比较 | 第55-58页 |
| ·薄膜方块电阻的比较 | 第55页 |
| ·薄膜的 XRD 图的比较 | 第55-56页 |
| ·薄膜电阻温度曲线的比较 | 第56-57页 |
| ·薄膜红外吸收曲线比较 | 第57-58页 |
| ·薄膜的 AFM 图比较 | 第58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第六章 用 W,Ti 代替 V 层的三层膜的制备及其性能研究 | 第60-72页 |
| ·V_2O_5/W/V_2O_5的制备及其性能研究 | 第60-66页 |
| ·V_2O_5/W/V_2O_5薄膜的制备工艺及其方块电阻的测试 | 第60-62页 |
| ·V_2O_5/W/V_2O_5薄膜的红外吸收性能 | 第62-63页 |
| ·V_2O_5/W/V_2O_5薄膜的电阻温度曲线 | 第63-64页 |
| ·V_2O_5/W/V_2O_5薄膜的 XRD 图谱 | 第64页 |
| ·V_2O_5/W/V_2O_5薄膜的形貌观察 | 第64-66页 |
| ·V_2O_5/Ti/V_2O_5的制备及其性能研究 | 第66-71页 |
| ·V_2O_5/Ti/V_2O_5薄膜的制备及其方块电阻的测试 | 第66-67页 |
| ·V_2O_5/Ti/V_2O_5薄膜的红外吸收性能 | 第67-68页 |
| ·V_2O_5/Ti/V_2O_5薄膜的电阻温度曲线 | 第68-69页 |
| ·V_2O_5/Ti/V_2O_5薄膜的 XRD 图 | 第69-70页 |
| ·V_2O_5/Ti/V_2O_5薄膜的 AFM 图 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第七章 总结与展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第79-80页 |
