| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-35页 |
| ·光伏产业的现状与前景 | 第13-16页 |
| ·硅材料与光伏产业 | 第16-18页 |
| ·太阳能级多晶硅杂质要求 | 第18-20页 |
| ·太阳能级硅生产方法 | 第20-32页 |
| ·化学法 | 第20-24页 |
| ·冶金法 | 第24-32页 |
| ·课题的提出及本论文的研究内容 | 第32-33页 |
| ·本论文创新点 | 第33-35页 |
| 第二章 冶金级硅中杂质赋存状态研究 | 第35-45页 |
| ·冶金级硅化学成分分析 | 第35-36页 |
| ·冶金级硅中杂质物相分析 | 第36-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 常温Me-Si-(F)-H_2O系热力学分析 | 第45-75页 |
| ·Al-Si-H_2O系电位-pH图 | 第45-53页 |
| ·Al-H_2O系电位-pH图 | 第45-46页 |
| ·Si-H_2O系电位-pH图 | 第46-47页 |
| ·F-H_2O系电位-pH图 | 第47-49页 |
| ·Al-Si-H_2O系电位-pH图 | 第49-50页 |
| ·Al-F-H_2O系电位-pH图 | 第50-51页 |
| ·Si-F-H_2O系电位-pH图 | 第51-52页 |
| ·Al-Si-F-H_2O系电位-pH图 | 第52-53页 |
| ·Ca-Si-H_2O系电位-pH图 | 第53-59页 |
| ·Ca-H_2O系电位-pH图 | 第53-54页 |
| ·Ca-Si-H_2O系电位-pH图 | 第54-56页 |
| ·Ca-F-H_2O系电位-pH图 | 第56-57页 |
| ·Ca-Si-F-H_2O系电位-pH图 | 第57-59页 |
| ·Ti-Si-H_2O系电位-pH图 | 第59-65页 |
| ·Ti-H_2O电位-pH图 | 第59-61页 |
| ·Ti-F-H_2O电位-pH图 | 第61-63页 |
| ·Ti-Si-H_2O电位-pH图 | 第63-64页 |
| ·Ti-Si-F-H_2O系电位-pH图 | 第64-65页 |
| ·Fe-Si-H_2O系电位-pH图 | 第65-68页 |
| ·P-Si-F-H_2O系电位-pH图 | 第68-71页 |
| ·P-H_2O系电位-pH图 | 第68-70页 |
| ·P-Si-H_2O系电位-pH图 | 第70页 |
| ·P-Si-F-H_2O系电位-pH图 | 第70-71页 |
| ·Me-Si-(F)-H_2O系电位-pH图的指导作用 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-75页 |
| 第四章 杂质相去除机理分析及浸出剂选择 | 第75-91页 |
| ·FeSi_2去除机理分析 | 第75-76页 |
| ·CaSi_2去除机理分析 | 第76-78页 |
| ·FeTiSi_2去除机理分析 | 第78-82页 |
| ·双参数模型估算FeTiSi_2的△_fG_m | 第78-81页 |
| ·FeTiSi_2去除机理分析 | 第81-82页 |
| ·FeAl_3Si_2去除机理分析 | 第82-84页 |
| ·双参数模型估算FeAl_3Si_2的△_fG_m | 第82-83页 |
| ·FeAl_3Si_2去除机理分析 | 第83-84页 |
| ·SiP去除机理分析 | 第84-85页 |
| ·HCl与HF的协同作用分析 | 第85-88页 |
| ·本章小结 | 第88-91页 |
| 第五章 冶金级硅湿法提纯工艺研究 | 第91-115页 |
| ·冶金级硅湿法提纯工艺选择 | 第91-98页 |
| ·实验原料与方法 | 第91-92页 |
| ·实验条件与结果 | 第92-98页 |
| ·HF-HCl提纯冶金级硅工艺参数选择 | 第98-108页 |
| ·浸出时间对除杂的影响 | 第98-100页 |
| ·浸出温度对除杂的影响 | 第100-102页 |
| ·HF浓度对除杂的影响 | 第102-105页 |
| ·HCl浓度对除杂的影响 | 第105-107页 |
| ·液固比对除杂的影响 | 第107-108页 |
| ·两段浸出 | 第108页 |
| ·非金属杂质B和P的去除研究 | 第108-114页 |
| ·非金属杂质B和P湿法去除体系的选择 | 第108-110页 |
| ·浸出时间对除杂的影响 | 第110-111页 |
| ·酸浓度对除杂的影响 | 第111页 |
| ·液固比对除杂的影响 | 第111-112页 |
| ·粒度对除杂的影响 | 第112-113页 |
| ·浸出温度对除杂的影响 | 第113-114页 |
| ·本章小结 | 第114-115页 |
| 第六章 杂质相去除机理验证 | 第115-133页 |
| ·HF或HCl对杂质的去除作用验证 | 第115-126页 |
| ·杂质去除过程产生的气相验证 | 第126-129页 |
| ·浸出液中铁离子状态验证 | 第129-131页 |
| ·本章小结 | 第131-133页 |
| 第七章 湿法提纯冶金级硅半工业化试验研究 | 第133-151页 |
| ·半工业化试验设备与原料 | 第133-136页 |
| ·半工业化试验设备 | 第134-136页 |
| ·半工业化试验原料 | 第136页 |
| ·半工业化试验结果与分析 | 第136-146页 |
| ·HCl浓度对除杂的影响 | 第136-138页 |
| ·HF浓度对除杂的影响 | 第138-140页 |
| ·粒度对除杂的影响 | 第140-143页 |
| ·液固比对除杂的影响 | 第143-145页 |
| ·两段酸浸除杂实验 | 第145-146页 |
| ·含氟废液的处理 | 第146-147页 |
| ·冶金级硅湿法提纯工艺经济评价 | 第147-150页 |
| ·本章小结 | 第150-151页 |
| 第八章 结论与展望 | 第151-155页 |
| ·结论 | 第151-153页 |
| ·展望 | 第153-155页 |
| 致谢 | 第155-157页 |
| 参考文献 | 第157-167页 |
| 攻读博士学位期间科研情况介绍 | 第167-168页 |
