微波等离子体法化学气相合成立方氮化硼薄膜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·立方氮化硼的研究现状 | 第9-11页 |
| ·国外研究现状 | 第9-10页 |
| ·国内研究现状 | 第10-11页 |
| ·cBN的性质 | 第11-12页 |
| ·cBN的应用前景 | 第12-15页 |
| ·cBN机械方面的应用前景 | 第13-14页 |
| ·cBN光学与微电子学方面的应用前景 | 第14-15页 |
| ·cBN薄膜的制备方法 | 第15-18页 |
| ·PVD方法制备cBN薄膜 | 第15-17页 |
| ·CVD方法制备cBN薄膜 | 第17-18页 |
| ·两种生长方法的比较 | 第18页 |
| ·cBN薄膜制备中存在的主要问题 | 第18-21页 |
| ·结晶度问题 | 第19页 |
| ·结合性问题 | 第19-20页 |
| ·重复性问题 | 第20页 |
| ·生长机理问题 | 第20-21页 |
| ·化学配比问题 | 第21页 |
| ·本论文的研究意义和内容 | 第21-23页 |
| 第2章 cBN薄膜的结构特征 | 第23-32页 |
| ·BN的四种异构体 | 第23-28页 |
| ·六角氮化硼的结构和性质 | 第24-25页 |
| ·菱形氮化硼的结构和性质 | 第25-26页 |
| ·纤锌矿氮化硼的结构和性质 | 第26页 |
| ·cBN的结构和性质 | 第26-28页 |
| ·cBN薄膜的结构 | 第28-31页 |
| ·非晶BN层 | 第28-29页 |
| ·六角BN层 | 第29-30页 |
| ·cBN层 | 第30页 |
| ·近表面层 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 cBN薄膜制备与表征 | 第32-44页 |
| ·MPCVD沉积系统 | 第32-36页 |
| ·MPCVD系统的特点 | 第32页 |
| ·MPCVD系统的组成 | 第32-36页 |
| ·等离子体介绍 | 第36页 |
| ·微波等离子体原理和性质 | 第36-38页 |
| ·辉光放电原理 | 第38-39页 |
| ·cBN薄膜的表征方法 | 第39-43页 |
| ·傅立叶变换红外谱 | 第39-40页 |
| ·电子衍射和X射线衍射 | 第40-41页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第41页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 实验结果与分析 | 第44-61页 |
| ·实验过程 | 第44-46页 |
| ·衬底的选择 | 第44页 |
| ·衬底预处理 | 第44-45页 |
| ·样品制备 | 第45-46页 |
| ·主要的沉积参数对cBN薄膜生长的影响 | 第46-59页 |
| ·BF_3流量变化对薄膜生长的影响 | 第47-50页 |
| ·H_2流量变化对薄膜生长的影响 | 第50-52页 |
| ·偏压变化对薄膜生长的影响 | 第52-54页 |
| ·压强变化对薄膜生长的影响 | 第54-56页 |
| ·功率变化对薄膜生长的影响 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
