| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-23页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-12页 |
| ·氧化铝单晶的性能与应用 | 第12-16页 |
| ·光学薄膜的发展历史与研究现状 | 第16-19页 |
| ·磁控溅射法的基本原理 | 第19-21页 |
| ·论文研究的主要内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验材料与分析测试方法 | 第23-31页 |
| ·膜料的选择 | 第23-26页 |
| ·分析测试方法 | 第26-30页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第26-27页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第27页 |
| ·原子力显微镜 | 第27-28页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第28页 |
| ·分光光度计 | 第28-29页 |
| ·椭偏仪 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 红外增反膜膜系设计 | 第31-46页 |
| ·光学薄膜基本原理 | 第31-42页 |
| ·介质中的电磁波 | 第31-33页 |
| ·导纳方程 | 第33页 |
| ·光波在介质界面上的反射与折射 | 第33-36页 |
| ·光学薄膜的特征矩阵 | 第36-40页 |
| ·光学膜系的光学性质 | 第40-42页 |
| ·光学膜系优化设计方法 | 第42-44页 |
| ·理想的多层介质反射膜系的选择 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 磁控溅射制备 TiO_2和 SiO_2膜及其特性表征 | 第46-68页 |
| ·实验方法 | 第46-48页 |
| ·实验装置 | 第46-47页 |
| ·工艺参数的选择 | 第47-48页 |
| ·工艺流程 | 第48页 |
| ·薄膜测试结果与分析 | 第48-66页 |
| ·薄膜的XRD 表征 | 第48-54页 |
| ·薄膜的XPS 表征 | 第54-60页 |
| ·薄膜的AFM 表征 | 第60-64页 |
| ·薄膜的SEM 表征 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 红外增反膜的制备与测试分析 | 第68-74页 |
| ·单层膜光学常数的测定 | 第68-70页 |
| ·增反膜的制备与测试结果分析 | 第70-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82页 |