以六羰基铬为前驱体的激光化学气相沉积薄膜的结构表征及形成机理
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·研究背景 | 第10-14页 |
| ·光掩膜版的结构及其特点 | 第10-11页 |
| ·光掩膜版的缺陷及其危害 | 第11-14页 |
| ·激光化学气相沉积Cr(CO)_6国内外研究现状 | 第14-20页 |
| ·激光化学气相沉积原理 | 第14-15页 |
| ·Cr(CO)_6的光解机理及产物 | 第15-16页 |
| ·影响Cr(CO)_6光解过程和产物的因素 | 第16-17页 |
| ·对Cr(CO)_6激光光解后形成的薄膜的研究 | 第17-19页 |
| ·激光化学气相沉积技术应用于透明缺陷修复研究现状 | 第19-20页 |
| ·研究目的 | 第20页 |
| ·研究内容 | 第20页 |
| ·技术路线 | 第20-22页 |
| 第二章 实验材料、方法和设备制备 | 第22-30页 |
| ·实验材料 | 第22-23页 |
| ·六羰基铬粉末 | 第22页 |
| ·玻璃基体 | 第22-23页 |
| ·激光化学气相沉积试验 | 第23-25页 |
| ·激光器系统 | 第23-24页 |
| ·激光化学气相沉积装置 | 第24页 |
| ·激光化学气相沉积试验 | 第24-25页 |
| ·扫描电镜试验 | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜试验 | 第26-27页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第27-30页 |
| 第三章 LCVD薄膜形貌和成分分析 | 第30-36页 |
| ·LCVD薄膜表面形貌分析 | 第30-32页 |
| ·LCVD薄膜成分分析 | 第32-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 LCVD薄膜表面特性及生长机理的研究 | 第36-46页 |
| ·LCVD-B薄膜表面形貌分析 | 第36-38页 |
| ·LCVD-W薄膜表面形貌分析 | 第38页 |
| ·PVD薄膜表面形貌分析 | 第38-40页 |
| ·LCVD和PVD薄膜表面粗糙度分析 | 第40-42页 |
| ·LCVD薄膜生长机理分析 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 LCVD薄膜物相组成和形成机理的研究 | 第46-62页 |
| ·PVD薄膜的XPS分析 | 第46-50页 |
| ·PVD薄膜的XPS全谱分析 | 第46-48页 |
| ·PVD薄膜主要元素的电子结合能 | 第48-50页 |
| ·LCVD薄膜的XPS分析 | 第50-61页 |
| ·LCVD薄膜的XPS全谱分析 | 第50-54页 |
| ·LCVD薄膜主要元素的电子结合能 | 第54-58页 |
| ·LCVD薄膜XPS曲线的分峰处理 | 第58-60页 |
| ·LCVD薄膜物相形成机理 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 作者简介 | 第66页 |
